期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
摘要
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到464篇文章
< 1 2 … 24 >
每页显示 20 50 100
已选0条
引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
SiO2嵌入分离层制备高性能薄膜复合膜 认领 引用 被引量：1
1
作者 胡小杰 丰桂珍 +2 位作者 方圳生 张火梅 陈俊 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2025年第3期44-48,共5页
为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2... 为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2的添加对膜表面特性、分离性能及抗污染性能的影响。结果表明:SiO2的嵌入对膜的表面粗糙度、亲水性和负电性都有较大增强;当SiO2添加质量比为0.02%时,TFN-SiO2膜的水通量达到35.5 L/(m2·h),对Na2SO4的截留维持在95%以上,在30 h的脱盐试验中保持良好的稳定性,同时对腐殖酸(HA)、牛血清蛋白(BSA)、海藻酸钠(SA)三种模型污染物的抗污染性能有所提升。 展开更多
关键词 界面聚合 SiO2 薄膜复合膜 抗污染性
暂未订购 下载PDF
纳米Ag-TiO_2/SiO_2的制备及其深度处理酿酒废水的研究 认领 引用 被引量：9
2
作者 李相彪 刘丽秀 《中国酿造》 CAS 北大核心 2010年第4期110-112,共3页
以硅胶为载体,采用溶胶凝胶-光还原法制备了掺Ag的TiO2薄膜催化剂(Ag-TiO2/SiO2),再以经厌氧处理后的酿酒废水为对象,考察催化剂的活性和酿酒废水的深度处理效果。实验结果表明:Ag-TiO2/SiO2薄膜具有较强的光催化活性,酿酒废水经光催化... 以硅胶为载体,采用溶胶凝胶-光还原法制备了掺Ag的TiO2薄膜催化剂(Ag-TiO2/SiO2),再以经厌氧处理后的酿酒废水为对象,考察催化剂的活性和酿酒废水的深度处理效果。实验结果表明:Ag-TiO2/SiO2薄膜具有较强的光催化活性,酿酒废水经光催化降解5h后,其CODCr去除率达87.5%,出水水质达国家(GB 8978-1996)二级排放标准;同时,样品表征结果说明Ag掺杂会促进TiO2由锐钛型向金红石型转变,并使催化剂粒径更小更均匀,催化薄膜与硅胶载体结合更牢固。 展开更多
关键词 Ag-TiO2/SiO2薄膜 光催化降解 酿酒废水 深度处理
暂未订购 下载PDF
等离子体沉积类SiO_2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚 认领 引用 被引量：31
3
作者 海彬 章程 +3 位作者 王瑞雪 张帅 陈根永 邵涛 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期375-384,共10页
气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同... 气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同时利用Fourier变换红外光谱仪(FTIR)、高阻表和表面电位测试系统等对沉积薄膜表面进行分析。实验结果表明:沉积时间超过5 s时,环氧树脂表面形成一层以Si—O—Si及Si—OH基团为主要组成的薄膜,其厚度可达219 nm;且水接触角显著降低,表面电导率及体积电导率可提升2个数量级,相对介电常数明显降低。表面电位3维分布图结果表明,沉积处理后环氧树脂的表面电荷初始积聚减少,且消散速度加快。这是因为环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜后使材料表面陷阱能级变浅,从而抑制了表面电荷的积聚。 展开更多
关键词 环氧树脂 滑动放电 类SiO2薄膜 表面电位 电导率
暂未订购 下载PDF
Fe3+-TiO_2/SiO_2薄膜催化剂的结构对其光催化性能影响 认领 引用 被引量：44
4
作者 付宏刚 王建强 +4 位作者 任志宇 闫鹏飞 于海涛 辛柏福 袁福龙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2003年第9期1671-1676,共6页
以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最... 以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最佳掺入量为0.03％。罗丹明B在粉体和膜催化剂的作用下遵循不同的光催化反应机理。根据XRD,SEM,Raman,XPS和FTIR的表征结果可认为,TiO_2在SIO_2表面薄膜化和Ti-O-Si键的形成是催化活性提高和降解机理不同的主要原因。 展开更多
关键词 Fe3+-TiO2/SiO2薄膜 催化剂 结构 光催化性能 溶胶-凝胶法 制备 二氧化钛
暂未订购 下载PDF
热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 认领 引用 被引量：12
5
作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页
采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构
暂未订购 下载PDF
GaSb基PECVD法制备SiO_2薄膜的应力研究 认领 引用 被引量：8
6
作者 王志伟 郝永芹 +5 位作者 李洋 谢检来 王霞 晏长岭 魏志鹏 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期935-941,共7页
为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法... 为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法模型,对镀膜前后的曲率半径进行了实验测量,利用Stoney公式计算相关应力值并绘制应力变化曲线。详细讨论了PECVD工艺条件的改变对SiO_2薄膜应力所产生的影响。同时通过在Si衬底上沉积SiO_2薄膜,对比分析了导致薄膜应力产生的因素及变化过程。实验结果表明,在沉积温度为300℃、射频功率为20 W、腔体压强为90 Pa、气体流量比SiH_4/N_2O为125/70 cm^3·min-1的工艺参数下,PECVD法在GaSb衬底上沉积的SiO_2薄膜应力相对较小。 展开更多
关键词 GaSb PECVD SiO2薄膜 应力
暂未订购 下载PDF
SiO_2气凝胶柔性保温隔热薄膜 认领 引用 被引量：19
7
作者 倪星元 程银兵 +4 位作者 马建华 吴广明 周斌 沈军 王珏 《功能材料》 EI CAS 北大核心 2003年第6期725-727,共3页
　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,... 　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,使孔洞率提高到97%,体积密度降低为50kg/m3,成为优秀的保温隔热的主体材料。选择柔性耐温隔热的聚酰亚胺作为骨架材料,并用真空蒸发镀制上金属铝膜与多孔SiO2气凝胶复合成保温隔热薄膜。当薄膜叠加到10层时其保温隔热效果可提高5倍。 展开更多
关键词 SiO2 气凝胶 柔性多层薄膜 保温隔热 溶胶-凝胶 气孔率 体积密度
暂未订购 下载PDF
SiO_2薄膜光学常数物理模型(英文) 认领 引用 被引量：9
8
作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层
暂未订购 下载PDF
纳米多孔SiO_2薄膜的制备与红外光谱研究 认领 引用 被引量：16
9
作者 王娟 张长瑞 +1 位作者 冯坚 杨大祥 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS 北大核心 2005年第7期1045-1048,共4页
以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄... 以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄膜含有Si-O-Si与Si-OR结构, 呈疏水性; 该SiO2薄膜热处理后因含有Si-OH基团而呈吸水性; 用三甲基氯硅烷对热处理SiO2薄膜进行修饰可使其呈疏水性, 修饰后的薄膜在N2中温度不高于450 ℃可保持其疏水性与多孔结构. 展开更多
关键词 纳米多孔 SiO2薄膜 三甲基氯硅烷 溶胶-凝胶 红外光谱
暂未订购 下载PDF
SiO2薄膜热应力模拟计算 认领 引用 被引量：11
10
作者 吴靓臻 唐吉玉 +3 位作者 马远新 孔蕴婷 文于华 陈俊芳 《华南师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第1期52-55,共4页
薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋... 薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图,对薄膜现实生长具有一定的指导意义. 展开更多
关键词 热应力 SiO2薄膜 有限元 模拟
暂未订购 下载PDF
PECVD提高SiO_2薄膜致密性的研究 认领 引用 被引量：7
11
作者 郭文涛 谭满清 +2 位作者 焦健 郭小峰 孙宁宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期577-581,共5页
为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶... 为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶红外光谱仪得到SiO2薄膜的红外吸收特性,采用原子力显微镜(AFM)观察SiO2薄膜的表面形貌。通过优化各工艺参数最终获得了BOE腐蚀速率为9.18 nm/s的SiO2薄膜。 展开更多
关键词 PECVD SiO2薄膜 致密性 BOE腐蚀速率
暂未订购 下载PDF
离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整 认领 引用 被引量：9
12
作者 刘华松 王利栓 +1 位作者 姜玉刚 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2238-2243,共6页
基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获... 基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03%、71.98%和69.53%;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62%、48.49%和37.88%。得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 正交实验 折射率 应力 离子束溅射
暂未订购 下载PDF
SiO_2溶胶及其静电自组装薄膜的制备 认领 引用 被引量：6
13
作者 许丕池 姜德生 +2 位作者 余海湖 李小甫 李鸿辉 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS 北大核心 2004年第2期165-170,共6页
采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl... 采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl催化制备的SiO2 透明溶胶不适合于用ESAM法制备薄膜 ,用HCl与NH3 ·H2 O分步催化以及用NH3 ·H2 O单独催化制备的SiO2 胶体适合于用ESAM法制备光学薄膜 .薄膜的透射电镜微观察结果表明 ,以HCl与NH3 ·H2 O分步催化的SiO2 胶体制备的PDDA/SiO2 薄膜为连续结构 ,NH3 ·H2 O单独催化的为颗粒堆积 .研究了薄膜透光率与薄膜层数的关系 ,考察了薄膜的机械强度 .结果显示 ,以NH3 ·H2 O单独催化的SiO2 胶体制备的光学薄膜的增透效果较好 。 展开更多
关键词 SiO2 溶胶 静电自组装 复合薄膜
暂未订购 下载PDF
TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备及其自清洁性能 认领 引用 被引量：5
14
作者 董如林 刘淑赟 +2 位作者 陈智栋 金长春 王彩霞 《化工进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期645-651,共7页
利用热陈化法得到的纳米TiO2粒子及SiO2聚合物胶粒通过浸渍-提拉技术制备了具有自清洁功能的TiO2/SiO2复合薄膜。考察了SiO2的复合比例对薄膜的表面形貌、透光率、光致亲水及自清洁性能的影响。随着SiO2复合体积分数的增大,薄膜的表面... 利用热陈化法得到的纳米TiO2粒子及SiO2聚合物胶粒通过浸渍-提拉技术制备了具有自清洁功能的TiO2/SiO2复合薄膜。考察了SiO2的复合比例对薄膜的表面形貌、透光率、光致亲水及自清洁性能的影响。随着SiO2复合体积分数的增大,薄膜的表面粗糙度、可见光透过率、光致亲水及自清洁性能显示了相似的变化规律。即在V(SiO2)=25%左右时,薄膜的各项特性或性能达到最大值或最小值。该薄膜在室外放置28天后,仍能显示超亲水性能。 展开更多
关键词 TiO2 SiO2复合薄膜 自清洁 粗糙度 透光率
暂未订购 下载PDF
五层纳米SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能 认领 引用 被引量：7
15
作者 杨瑞宵 陈昊 +2 位作者 王相文 赵伟 范勇 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期1050-1058,共9页
采用浸胶法制备了一系列SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺(SiO_2-Al_2O_3/PI)五层耐电晕薄膜AmAnPAnAm,其中中间层(P)为纯PI薄膜,外层(Am)、次外层(An)分别为SiO_2-Al_2O_3掺杂不同质量分数的纳米SiO_2-Al_2O_3/PI薄膜。采用TEM、FTIR、宽频介电... 采用浸胶法制备了一系列SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺(SiO_2-Al_2O_3/PI)五层耐电晕薄膜AmAnPAnAm,其中中间层(P)为纯PI薄膜,外层(Am)、次外层(An)分别为SiO_2-Al_2O_3掺杂不同质量分数的纳米SiO_2-Al_2O_3/PI薄膜。采用TEM、FTIR、宽频介电谱仪、电导电流测试仪、耐电晕测试仪、介电强度测试仪和拉伸实验机对五层纳米复合PI耐电晕薄膜的微观结构、介电性能和力学性能进行了表征和测试。结果表明,SiO_2-Al_2O_3/PI复合薄膜掺杂层形成了分布均匀的有机/无机复合结构;SiO_2-Al_2O_3纳米粒子的保护作用是影响复合材料耐电晕性能的主要因素,复合薄膜A32A16PA16A32的耐电晕寿命最大,为23.4h;外层掺杂量对五层SiO_2-Al_2O_3/PI复合材料的介电强度影响较大,复合薄膜A20A28PA28A20的介电强度最大,为302.3kV/mm;通过对五层复合结构的设计,可以在兼顾材料力学性能的同时,提高其耐电晕寿命和介电强度。 展开更多
关键词 复合薄膜 聚酰亚胺(PI) SiO2-Al2O3纳米粒子 多层结构 介电性能 耐电晕
暂未订购 下载PDF
溶胶-凝胶法制备SiO_2-TiO_2纳米复合薄膜紫外光处理的研究 认领 引用 被引量：10
16
作者 马建华 吴广明 +1 位作者 沈军 王珏 《无机材料学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2001年第6期1174-1180,共7页
采用溶胶－凝胶技术，结合二步水解法分别在单晶硅片、石英玻璃和Kg玻璃上制备SiO2、TiO2纳米复合薄膜，采用高压汞灯对其进行紫外光处理，分别用AFM、椭偏仪、FTIR、UV－Vis分光光度计以及XRD对凝胶膜紫外光处理前后的光学性能和结构... 采用溶胶－凝胶技术，结合二步水解法分别在单晶硅片、石英玻璃和Kg玻璃上制备SiO2、TiO2纳米复合薄膜，采用高压汞灯对其进行紫外光处理，分别用AFM、椭偏仪、FTIR、UV－Vis分光光度计以及XRD对凝胶膜紫外光处理前后的光学性能和结构进行研究，并与传统的热处理进行比较与分析．研究表明，紫外光处理是实现凝胶膜低温致密化的有效方法之一，其致密化的机理不同于传统的热处理，主要是通过紫外高能光子诱导复合薄膜网络结构的原子中的电子激发，导致原子化学键的断裂，进而产生结构重组而致密化． 展开更多
关键词 SiO2 TiO2 纳米复合薄膜 溶胶-凝胶法 紫外光处理 致密化 二氧化硅 二氧化钛
暂未订购 下载PDF
SiO_2包覆的β-NaYF_4∶Eu3+及透明发光薄膜的制备和性能研究 认领 引用 被引量：8
17
作者 蒋晨飞 黄文娟 +4 位作者 丁明烨 黄亨明 倪亚茹 陆春华 许仲梓 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期12-17,共6页
通过溶胶-凝胶方法对β-NaYF4∶Eu3+进行了表面SiO2包裹处理,并将其分散于溶胶中提拉成膜,制备成发光薄膜。采用XRD、SEM、TEM、FTIR、UVPC、PL等测试手段进行了分析表征。结果表明:NaYF4表面被成功包裹上了一层SiO2,形成了核壳结构,并... 通过溶胶-凝胶方法对β-NaYF4∶Eu3+进行了表面SiO2包裹处理,并将其分散于溶胶中提拉成膜,制备成发光薄膜。采用XRD、SEM、TEM、FTIR、UVPC、PL等测试手段进行了分析表征。结果表明:NaYF4表面被成功包裹上了一层SiO2,形成了核壳结构,并除去了表面油酸等有机物。表面包裹对NaYF4的晶型结构没有产生影响,但荧光性能略有下降,形貌趋向于圆形,这是由于表面SiO2颗粒在形成网络结构的张力和溶剂溶解所致。采用提拉浸渍镀膜后,发光粒子比较好地分散在薄膜上,并且具有比较理想的透过率,呈现出一定的减反射效果。由于SiO2包裹和热处理,O2-空位缺陷增强了Eu3+在420～500 nm波段的发光,这对整个发光性能是有利的。而因为能量转移,产生无辐射跃迁,613 nm处发光产生猝灭。通过实验,优化确定了制备发光薄膜的最佳工艺。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 β-NaYF4∶Eu3+ SiO2包裹 发光薄膜
暂未订购 下载PDF
多孔TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备及其超亲水性机理 认领 引用 被引量：7
18
作者 杨春晓 黄洪 +1 位作者 黄涛 司徒粤 《应用化工》 CAS CSCD 2013年第7期1174-1179,共6页
采用溶胶-凝胶法,以钛酸四丁酯和正硅酸乙酯为前驱体,利用乙酰丙酮和二乙醇胺为络合剂,制备多孔TiO2/SiO2复合薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线衍射分析(XRD)、接触角测试仪(WCA)等... 采用溶胶-凝胶法,以钛酸四丁酯和正硅酸乙酯为前驱体,利用乙酰丙酮和二乙醇胺为络合剂,制备多孔TiO2/SiO2复合薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线衍射分析(XRD)、接触角测试仪(WCA)等对薄膜的结构和性能进行了表征。结果表明,TiO2/SiO2复合薄膜表面相对孤立或连通的孔结构是由缩聚反应诱导的相分离以及溶胶-凝胶转化过程同步作用产生的。多孔复合薄膜具有优异的超亲水性能,自然条件下与水接触角仅为2.5°,而普通致密TiO2薄膜在相同条件下接触角为19.3°。复合薄膜的超亲水性是由多孔结构和SiO2复合的共同作用产生,受到表面微观形貌和表面化学组成(羟基含量)的共同影响。 展开更多
关键词 TiO2 SiO2复合薄膜 多孔结构 相分离 超亲水性 羟基含量
暂未订购 下载PDF
PI/T-SiO_2杂化薄膜的制备及偶联剂的影响 认领 引用 被引量：10
19
作者 李元庆 张以河 +1 位作者 李明 付绍云 《合成树脂及塑料》 EI CAS 2004年第5期61-64,共4页
利用模板法制备了纳米管状SiO2(T-SiO2),在此基础上合成了聚酰亚胺/T-SiO2杂化薄膜.采用透射电子显微镜和扫描电子显微镜对T-SiO2的形态进行了研究,用红外光谱分析了硅烷偶联剂对杂化薄膜微观结构的影响,并讨论了偶联剂加入方式、用量... 利用模板法制备了纳米管状SiO2(T-SiO2),在此基础上合成了聚酰亚胺/T-SiO2杂化薄膜.采用透射电子显微镜和扫描电子显微镜对T-SiO2的形态进行了研究,用红外光谱分析了硅烷偶联剂对杂化薄膜微观结构的影响,并讨论了偶联剂加入方式、用量等因素对杂化薄膜力学性能的影响.结果表明,所制备的SiO2主要为管口直径分布在100～500nm,长径比在10～500的T-SiO2;在聚酰胺酸形成后,加人经偶联剂改性的T-SiO2,且偶联剂用量为填料质量的10%时,杂化薄膜的拉伸强度和弹性模量取得最佳值,分别为111.8 MPa和1.42 GPa. 展开更多
关键词 硅烷偶联剂 杂化 SiO2 制备 薄膜力学 聚酰胺酸 改性 最佳值 红外光谱分析 纳米管
暂未订购 下载PDF
SiO_2超疏水薄膜的制备和性能表征 认领 引用 被引量：15
20
作者 田辉 杨泰生 陈玉清 《化工进展》 CAS 北大核心 2008年第9期1435-1438,共4页
采用溶胶-凝胶法、相分离及自组装技术,以正硅酸乙酯(TEOS)为硅前体,在硅溶胶中添加聚丙烯酸(PAA)引发相分离,通过控制PAA的含量来控制相分离的程度,从而制备出表面微结构可控制的SiO2薄膜。研究了聚丙烯酸含量对薄膜表面微结构及接触... 采用溶胶-凝胶法、相分离及自组装技术,以正硅酸乙酯(TEOS)为硅前体,在硅溶胶中添加聚丙烯酸(PAA)引发相分离,通过控制PAA的含量来控制相分离的程度,从而制备出表面微结构可控制的SiO2薄膜。研究了聚丙烯酸含量对薄膜表面微结构及接触角的影响。用扫描电镜(SEM)对薄膜表面进行了表征,结果表明,SiO2薄膜表面粗糙度随着聚丙烯酸含量的增加而增加。最后用三甲基氯硅烷(TMCS)进行化学气相修饰,形成TMCS自组装单分子层,制备出接触角达158°的超疏水SiO2薄膜。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 相分离 超疏水 接触角
暂未订购 下载PDF
已选0条
引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 24 下一页 到第 页
在线咨询 使用帮助 返回顶部 意见反馈