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The effects of radiation damage on power VDMOS devices with composite SiO_2-Si_3N_4 films 认领 引用 被引量：3
1
作者 高博 刘刚 +5 位作者 王立新 韩郑生 宋李梅 张彦飞 腾瑞 吴海舟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期393-398,共6页
Total dose effects and single event effects on radiation-hardened power vertical double-diffusion metal oxide semiconductor（VDMOS） devices with composite SiO2-Si3N4 film gates are investigated.The relationships amon... Total dose effects and single event effects on radiation-hardened power vertical double-diffusion metal oxide semiconductor（VDMOS） devices with composite SiO2-Si3N4 film gates are investigated.The relationships among the important electrical parameters of the samples with different thickness SiO2-Si3N4 films,such as threshold voltage,breakdown voltage,and on-state resistance in accumulated dose,are discussed.The total dose experiment results show that the breakdown voltage and the on-state resistance barely change with the accumulated dose.However,the relationships between the threshold voltages of the samples and the accumulated dose are more complex,and not only positively drift,but also negatively drift.At the end of the total dose experiment,we select the group of samples which have the smaller threshold voltage shift to carry out the single event effect studies.We find that the samples with appropriate thickness ratio SiO2-Si3N4 films have a good radiation-hardening ability.This method may be useful in solving both the SEGR and the total dose problems with the composite SiO2-Si3N4 films. 展开更多
关键词 power VDMOS device total dose effects single event effects composite SiO2-Si3N4 films
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Microstructures and magnetic properties of [SiO_2/FePt]_5/Ag thin films 认领 引用 被引量：2
2
作者 范九萍 许小红 +2 位作者 江凤仙 田宝强 武海顺 《Journal of Central South University of Technology》 2008年第1期11-14,共4页
[SiO2/FePt]5/Ag thin films were deposited by RF magnetron sputtering on the glass substrates and post annealing at 550 ℃ for 30 min in vacuum. Vibrating sample magnetometer and X-ray diffraction analyser were applied... [SiO2/FePt]5/Ag thin films were deposited by RF magnetron sputtering on the glass substrates and post annealing at 550 ℃ for 30 min in vacuum. Vibrating sample magnetometer and X-ray diffraction analyser were applied to study the magnetic properties and microstructures of the films. The results show that without Ag underlayer [SiO2/FePt]5 films deposited onto the glass are FCC disordered; with the addition of Ag underlayer [SiO]FePt]5/Ag films are changed into L10 and （111） mixed texture. The variation of the SiO2 nonmagnetic layer thickness in [SiO2/FePt]5/Ag films indicates that SiO2-doping plays an important role in improving the order parameter and the perpendicular magnetic anisotropy, and reducing the grain size and intergrain interactions. By controlling SiO2 thickness the highly perpendicular magnetic anisotropy can be obtained in the [SiO2 （0.6 nm）/FePt （3 nm）]5/Ag （50 nm） films and highly （001）-oriented films can be obtained in the [SiO2 （2 nm）/FePt （3 nm）]5/Ag （50 nm） films. 展开更多
关键词 [SiO2/FePt]5 multilayer films SiO2-doping Ag underlayer （001） orientation
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Antireflective and Self-cleaning Properties of SiO2/TiO2 Double-Layer Films Prepared by Cost-Effective Sol-Gel Process 认领 引用
3
作者 Hui Zhang Duo-wang Fan +1 位作者 Tian-zhi Yu Cheng-long Wang 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第6期
关键词 SiO2/TiO2 double-layer films Antireflective Self-cleaning Sol-gel process
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Crystallization Process of Superlattice-Like Sb/SiO_2 Thin Films for Phase Change Memory Application 认领 引用
4
作者 Xiao-Qin Zhu Rui Zhang +4 位作者 Yi-Feng Hu Tian-Shu Lai Jian-Hao Zhang Hua Zou Zhi-Tang Song 《Chinese Physics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第5期99-103,共5页
After compositing with SiO_2 layers, it is shown that superlattice-like Sb/SiO_2 thin films have higher crystallization temperature（~240°C）, larger crystallization activation energy（6.22 e V）, and better data... After compositing with SiO_2 layers, it is shown that superlattice-like Sb/SiO_2 thin films have higher crystallization temperature（~240°C）, larger crystallization activation energy（6.22 e V）, and better data retention ability（189°C for 10 y）. The crystallization of Sb in superlattice-like Sb/SiO_2 thin films is restrained by the multilayer interfaces. The reversible resistance transition can be achieved by an electric pulse as short as 8 ns for the Sb（3 nm）/SiO_2（7 nm）-based phase change memory cell. A lower operation power consumption of 0.09 m W and a good endurance of 3.0 × 10~6 cycles are achieved. In addition, the superlattice-like Sb（3 nm）/SiO_2（7 nm） thin film shows a low thermal conductivity of 0.13 W/（m·K）. 展开更多
关键词 Sb Crystallization Process of Superlattice-Like Sb/SiO2 Thin Films for Phase Change Memory Application SiO
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Enhanced nonlinear optical absorption of Au/SiO_2 nano-composite thin films 认领 引用
5
作者 赵翠华 张波萍 尚鹏鹏 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS 2009年第12期5539-5543,共5页
Nano metal-particle dispersed glasses are the attractive candidates for nonlinear optical material applications. Au/SiO2 nano-composite thin films with 3 vol% to 65 vol% Au are prepared by inductively coupled plasma s... Nano metal-particle dispersed glasses are the attractive candidates for nonlinear optical material applications. Au/SiO2 nano-composite thin films with 3 vol% to 65 vol% Au are prepared by inductively coupled plasma sputtering. Au particles as perfect spheres with diameters between 10 nm and 30 nm are uniformly dispersed in the SiO2 matrix. Optical absorption peaks due to the surface plasmon resonance of Au particles are observed. The absorption property is enhanced with the increase of Au content, showing a maximum value in the films with 37 vol% Au. The absorption curves of the Au/SiO2 thin films with 3 vol% to 37 vol% Au accord well with the theoretical optical absorption spectra obtained from Mie resonance theory. Increasing Au content over 37 vol% results in the partial connection of Au particles, whereby the intensity of the absorption peak is weakened and ultimately replaced by the optical absorption of the bulk. The band gap decreases with Au content increasing from 3 vol% to 37 vol % but increases as Au content further increases. 展开更多
关键词 Au/SiO2 nano-composite film plasma sputtering optical absorption spectra
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Structural,optical,and electrical properties of Cu-doped ZrO_2 films prepared by magnetron co-sputtering 认领 引用 被引量：1
6
作者 姚念琦 刘智超 +1 位作者 顾广瑞 吴宝嘉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期384-388,共5页
Copper （Cu）-doped ZrO2 （CZO） films with different Cu content （0 at.%- 8.07 at.%） are successfully deposited on Si （100） substrates by direct current （DC） and radio frequency （RF） magnetron co-sputtering. T... Copper （Cu）-doped ZrO2 （CZO） films with different Cu content （0 at.%- 8.07 at.%） are successfully deposited on Si （100） substrates by direct current （DC） and radio frequency （RF） magnetron co-sputtering. The influences of Cu content on structural, morphological, optical and electrical properties of CZO films are discussed in detail. The CZO films exhibit ZrO2 monocline （1^-11） preferred orientation, which indicates that Cu atoms are doped in ZrO2 host lattice. The crystallite size estimated form x-ray diffraction （XRD） increases by Cu doping, which accords with the result observed from the scanning electron microscope （SEM）. The electrical resistivity decreases from 2.63 Ω·cm to 1.48 Ω·cm with Cu doping content increasing, which indicates that the conductivity of CZO film is improved. However, the visible light transmittances decrease slightly by Cu doping and the optical band gap values decrease from 4.64 eV to 4.48 eV for CZO fihns. 展开更多
关键词 Cu-doped ZrO2 films magnetron co-sputtering resistivity transmittance
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PHASE ANALYSES FOR DUAL ION BEAM DEPOSITED ZrO2 FILMS ON NaCl SUBSTRATE 认领 引用
7
作者 黄宁康 汪德志 《Nuclear Science and Techniques》 EI CAS 1994年第4期202-205,共4页
ZrO2 films on NaCl(100) substrate produced by oxygen ion bombardment and argon ion sputtering of Zr are analysed using TEM, XRD and XPS. The result of TEM shows that only cubic phase exists for the ZrO2 film produced ... ZrO2 films on NaCl(100) substrate produced by oxygen ion bombardment and argon ion sputtering of Zr are analysed using TEM, XRD and XPS. The result of TEM shows that only cubic phase exists for the ZrO2 film produced by oxygen ion bombardment with 30μA/cm2 and 200eV, while the XRD result shows that there seems to exhibit a small quanitity of monoclinic phase apart from cubic one under the production condition of oxygen ion of 25μA/cm2, 100eV. 展开更多
关键词 ZrO2 film Dual ion beam deposition Ion Sputtering TEM XRD XPS
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High-T_c Superconducting Films with J_c 1.5×10~6 A·cm-2 Prepared on Substrate ZrO_2 (100) by DC-magnetron Sputtering 认领 引用
8
作者 Yang Bingchuan Wang Xiaoping +1 位作者 Cui Changgeng Li Changlin General Research Institute for Non-ferrous Metals. Beijing 100088 Institute of Physics Academia Sinica,Beijing 100080 《Rare Metals》 SCIE EI CAS 1990年第2期150-151,共2页
Values of critieal eurrent densityJ。exceeding lo6A·em一2 at 77K and zerofield have been rePorted for thinmagnetlcfllnls ofYBaoCu:O,on sinZle ervstal substrates ofSrTIO:〔l一3)and一MgO(4,5)by manvfeseafCnerS.bllt... Values of critieal eurrent densityJ。exceeding lo6A·em一2 at 77K and zerofield have been rePorted for thinmagnetlcfllnls ofYBaoCu:O,on sinZle ervstal substrates ofSrTIO:〔l一3)and一MgO(4,5)by manvfeseafCnerS.bllt tne rCSUltS OIJ、)IU一A’cm一IorY廿tU Illms on suoslrale 01 slngleerystal ZrO:(100)have not been found out inPublished PaPers 50 far.Owing to themierostrueture eharacters and highJ。ofYBCO films by contrast with bulk it 15 themost Possible to aPPly the fllms to eleetronicfield first.Therefore it 15 more signifieant toimProve values ofjcsubstrate with betterPIOCeSSJc> 展开更多
关键词 High-T_c Superconducting Films with J_c 1.5 Prepared on Substrate ZrO2 by DC-magnetron Sputtering cm DC
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ZrO_2助剂对Ni/SiO_2催化剂CO甲烷化催化活性及其吸附性能的影响 认领 引用 被引量：27
9
作者 武瑞芳 张因 +2 位作者 王永钊 高春光 赵永祥 《燃料化学学报》 北大核心 2009年第5期577-582,共6页
采用连续流动微反装置和原位漫反射红外光谱法考察了Ni/SiO2及添加ZrO2助剂的Ni/ZrO2-SiO2催化剂CO甲烷化催化活性和吸附性能。结果表明,在CO体积分数1%、空速5000 h-1、常压的反应条件下,200℃时Ni/ZrO2-SiO2催化剂可将CO完全转化。而... 采用连续流动微反装置和原位漫反射红外光谱法考察了Ni/SiO2及添加ZrO2助剂的Ni/ZrO2-SiO2催化剂CO甲烷化催化活性和吸附性能。结果表明,在CO体积分数1%、空速5000 h-1、常压的反应条件下,200℃时Ni/ZrO2-SiO2催化剂可将CO完全转化。而相同反应条件下Ni/SiO2催化剂上CO的转化率仅为35%,直至270℃时方可将CO完全转化。由此可见,ZrO2助剂的添加明显提高了Ni/ZrO2-SiO2催化剂的CO甲烷化催化活性。同时,ZrO2助剂的添加显著提高了Ni/ZrO2-SiO2催化剂对CO的吸附能力,H2存在时可通过在较低温度时形成较多的桥式羰基氢化物来提高Ni/ZrO2-SiO2催化剂的CO甲烷化催化活性;CO甲烷化反应条件下,Ni/SiO2和Ni/ZrO2-SiO2催化剂上C—O键的削弱和断裂是经由羰基氢化物-多氢羰基氢化物的途径,而不是经由C—O键的直接断裂途径。 展开更多
关键词 Ni/SiO2催化剂 ZrO2助剂 CO甲烷化 吸附
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Preparation and characterization of ZrO_2/TiO_2 composite photocatalytic film by micro-arc oxidation 认领 引用 被引量：9
10
作者 罗强 蔡启舟 +4 位作者 李欣蔚 潘振华 李玉洁 陈喜娣 严青松 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第10期2945-2950,共6页
ZrO2/TiO2 composite photocatalytic film was produced on the pure titanium substrate using in-situ Zr（OH）4 colloidal particle by the micro-arc oxidation technique and characterized by scanning electron microscope （... ZrO2/TiO2 composite photocatalytic film was produced on the pure titanium substrate using in-situ Zr（OH）4 colloidal particle by the micro-arc oxidation technique and characterized by scanning electron microscope （SEM）, energy dispersive X-ray （EDX）, X-ray diffraction （XRD） and ultraviolet-visible （UV-Vis） spectrophotometer. The composite film shows a lamellar and porous structure which consists of anatase, futile and ZrO2 phases. The optical absorption edge of film is shifted to longer wavelength when ZrO2 is introduced to TiO2. Furthermore, the photocatalytic reaction rate constants of degradation of rhodamine B solution with ZrO2/TiO2 composite film and pure TiO2 film under ultraviolet irradiation are measured as 0.0442 and 0.0186 h 1, respectively. 展开更多
关键词 pure titanium micro-arc oxidation Zr（OH）4 colloidal particle ZrO2/TiO2 composite photocatalytic film
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SiO_2改性ZrO_2气凝胶高温稳定性 认领 引用 被引量：4
11
作者 李晓雷 王庆浦 +2 位作者 季惠明 孙晓红 何健 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期65-68,共4页
以ZrOCl2·8H2O为锆源,以环氧丙烷(PO)为凝胶促进剂制备ZrO2凝胶,将ZrO2凝胶置于正硅酸乙酯乙醇溶液中老化,再结合高温超临界干燥工艺制备了SiO2改性ZrO2气凝胶。通过对比ZrO2气凝胶和SiO2改性ZrO2气凝胶高温结构转变讨论了SiO2改性... 以ZrOCl2·8H2O为锆源,以环氧丙烷(PO)为凝胶促进剂制备ZrO2凝胶,将ZrO2凝胶置于正硅酸乙酯乙醇溶液中老化,再结合高温超临界干燥工艺制备了SiO2改性ZrO2气凝胶。通过对比ZrO2气凝胶和SiO2改性ZrO2气凝胶高温结构转变讨论了SiO2改性对ZrO2气凝胶高温结构的影响。采用FT-IR、XRD、SEM和TEM等分析手段对样品进行高温结构表征。结果表明:采用正硅酸乙酯乙醇溶液老化ZrO2凝胶后,在ZrO2凝胶粒子表面形成了一层SiO2包裹层,这层SiO2包裹层显著抑制了ZrO2的扩散、成核和生长过程,高温稳定性得以显著提高。 展开更多
关键词 ZrO2气凝胶 SiO2 超临界干燥 高温稳定性
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纯丙类聚氨酯/SiO_2-ZrO_2光固化纳米复合透明耐磨涂料涂层的制备及性能 认领 引用 被引量：8
12
作者 董骏 梁红波 吕程 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2016年第8期15-19,6-7,共5页
目前，鲜见在纯丙类光固化聚氨酯中引入SiO2和ZrO2纳米粒子的报道。采用溶液聚合法制备了纯丙类聚氨酯丙烯酸酯，采用溶胶凝胶法制备SiO2及ZrO2无机溶胶，将无机前驱体与有机相进行杂化，制备了一系列可光固化的有机无机杂化涂料。采用... 目前，鲜见在纯丙类光固化聚氨酯中引入SiO2和ZrO2纳米粒子的报道。采用溶液聚合法制备了纯丙类聚氨酯丙烯酸酯，采用溶胶凝胶法制备SiO2及ZrO2无机溶胶，将无机前驱体与有机相进行杂化，制备了一系列可光固化的有机无机杂化涂料。采用红外光谱（FTIR）和核磁共振氢谱（1H—NMR）对杂化涂料及其涂层进行了结构表征，采用场发射扫描电镜（SEM）研究了杂化涂料涂层的表面形貌，并对涂层进行了物理性能、透明性以及耐磨性能测试。结果表明：杂化涂料涂层中，无机粒子均匀分散在有机相中，且无机粒子半径为20～30nm：无机粒子的引入显著提升了涂层的物理性能及耐磨性能，涂层的硬度从1H提升到6H，磨耗量减少了80％。 展开更多
关键词 聚氨酯丙烯酸酯 紫外光固化 耐磨性 有机无机杂化 SiO2 ZrO2
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ZrO_2-SiO_2膜的制备和结构研究 认领 引用 被引量：13
13
作者 黄永前 郑昌琼 +1 位作者 胡英 张育林 《功能材料》 EI CAS 北大核心 2000年第2期204-206,共3页
以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO... 以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO2 ,但在 5 0 0℃和 12 0 0℃热处理后的主晶相均为四方ZrO2 ,显然SiO2 的存在阻碍了四方相ZrO2 向单斜相ZrO2 转变的过程 ,ZrO2 -SiO2 膜具有比ZrO2 膜更高的热稳定性 ,在95 0℃烧结的无支撑ZrO2 -SiO2 膜孔径稍呈双峰分布 ,其最可几孔径为 3 .3 5nm。 展开更多
关键词 ZrO2-SiO2膜 溶胶-凝胶 制备 结构 热稳定性
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Zr(Ⅳ) surface sites determine CH3OH formation rate on Cu/ZrO2/SiO2-CO2 hydrogenation catalysts 认领 引用 被引量：3
14
作者 Erwin Lam Kim Larmier +3 位作者 Shohei Tada Patrick Wolf Olga V. Safonova Christophe Copéret 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期1741-1748,共8页
Cu/ZrO2/SiO2 are efficient catalysts for the selective hydrogenation of CO2 to CH3OH. In order to understand the role of ZrO2 in these mixed-oxides based catalysts, in situ X-ray absorption spectroscopy has been carri... Cu/ZrO2/SiO2 are efficient catalysts for the selective hydrogenation of CO2 to CH3OH. In order to understand the role of ZrO2 in these mixed-oxides based catalysts, in situ X-ray absorption spectroscopy has been carried out on the Cu and Zr K-edge. Under reaction conditions, Cu remains metallic, while Zr is present in three types of coordination environment associated with 1) bulk ZrO2, 2) coordinatively saturated and 3) unsaturated Zr(Ⅳ) surface sites. The amount of coordinatively unsaturated Zr surface sites can be quantified by linear combination fit of reference X-Ray absorption near edge structure (XANES) spectra and its amount correlates with CH3OH formation rates, thus indicating the importance of Zr(Ⅳ) Lewis acid surface sites in driving the selectivity toward CH3OH. This finding is consistent with the proposed mechanism, where CO2 is hydrogenated at the interface between the Cu nanoparticles that split H2 and Zr(Ⅳ) surface sites that stabilizes reaction intermediates. 展开更多
关键词 CO2 hydrogenation ZrO2/SiO2 supported Cu nanoparticles Lewis acidic surface sites In situ X-ray absorption spectroscopy
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耐高温ZrO_2/SiO_2复合气凝胶的制备及表征 认领 引用 被引量：4
15
作者 邹文兵 沈军 +5 位作者 祖国庆 邹丽萍 吴宇 关大勇 张蓉艳 姚献东 《南京工业大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第2期42-46,共5页
以锆酸四丁酯为锆源,采用溶胶-凝胶法结合化学液相沉积(CLD),即在凝胶老化过程中用部分水解的锆酸四丁酯和正硅酸四乙酯进行液相修饰,经过乙醇超临界干燥(SCFD)制备耐高温ZrO_2/SiO_2块体复合气凝胶。采用透射电子显微镜(TEM)、傅里叶... 以锆酸四丁酯为锆源,采用溶胶-凝胶法结合化学液相沉积(CLD),即在凝胶老化过程中用部分水解的锆酸四丁酯和正硅酸四乙酯进行液相修饰,经过乙醇超临界干燥(SCFD)制备耐高温ZrO_2/SiO_2块体复合气凝胶。采用透射电子显微镜(TEM)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、X线衍射仪(XRD)、N_2吸附分析仪等仪器表征了ZrO_2/SiO_2复合气凝胶的形貌、表面基团、晶相和孔结构,着重研究其耐热性能。结果表明:制备的ZrO_2/SiO_2复合气凝胶具有优秀的耐温性能,1 000℃处理2 h后,仍为四方相,线收缩率仅为12%,比表面积高达186 m2/g。 展开更多
关键词 ZrO2/SiO2复合气凝胶 溶胶-凝胶法 化学液相沉积 耐高温
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ZrO_2/SiO_2多层膜的化学法制备研究 认领 引用 被引量：5
16
作者 杨帆 沈军 +4 位作者 吴广明 孙骐 付甜 张志华 王珏 《强激光与粒子束》 EI CAS 北大核心 2003年第4期326-330,共5页
　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层... 　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题。应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外 可见、红外光谱进行了分析。用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激光系统产生的强激光进行了单层膜的辐照实验,结果发现溶剂替换后激光损伤阈值有所提高。 展开更多
关键词 ZrO2/SiO2多层膜 氧化锆 二氧化硅 化学法制备 溶胶-凝胶工艺 紫外光处理 激光损伤阈值 旋转镀膜法
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ZrO_2助剂对Co/SiO_2催化剂在Fischer-Tropsch合成反应中稳定性的影响 认领 引用 被引量：4
17
作者 周玮 房克功 +1 位作者 陈建刚 孙予罕 《燃料化学学报》 北大核心 2006年第4期461-465,共5页
采用TPR、XRD、XPS和H2脉冲吸附等表征手段考察了ZrO2助剂对Co/S iO2催化剂在F ischer-Tropsch(F-T)合成中稳定性的影响。结果表明,ZrO2的引入促进了钴物种在催化剂上的分散并明显抑制了该催化剂的失活;在反应过程中ZrO2起到结构助剂的... 采用TPR、XRD、XPS和H2脉冲吸附等表征手段考察了ZrO2助剂对Co/S iO2催化剂在F ischer-Tropsch(F-T)合成中稳定性的影响。结果表明,ZrO2的引入促进了钴物种在催化剂上的分散并明显抑制了该催化剂的失活;在反应过程中ZrO2起到结构助剂的作用,明显抑制了Co/S iO2催化剂上硅酸钴或水合硅酸钴物种的生成。 展开更多
关键词 Fischer—Tropsch合成 Co/SiO2 ZrO2 助剂 失活
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Sol-Gel法制备Al_2O_3-SiO_2-TiO_2-ZrO_2复合陶瓷膜的研究 认领 引用 被引量：4
18
作者 徐晓虹 吴建锋 +1 位作者 白占良 张英 《中国陶瓷》 CAS 2003年第6期21-23,共3页
将Sol-Gel法应用于无机膜的制备,成功的研制出一种新型的膜面平整、膜厚均匀且无宏观缺陷的Al2O3-SiO2-TiO2-ZrO2复合陶瓷膜,复合膜含有γ-Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2和Al2SiO5等晶相,改变体系组成含量,晶相组成和含量随之变化,从而引起... 将Sol-Gel法应用于无机膜的制备,成功的研制出一种新型的膜面平整、膜厚均匀且无宏观缺陷的Al2O3-SiO2-TiO2-ZrO2复合陶瓷膜,复合膜含有γ-Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2和Al2SiO5等晶相,改变体系组成含量,晶相组成和含量随之变化,从而引起膜的显微结构的变化。利用XRD、SEM、AFM、EPMA等测试手段重点研究了膜的表面形貌和显微结构,并分析了添加剂、热处理方式等对膜的表面形貌和显微结构影响。 展开更多
关键词 溶胶—凝胶法 Al2O3—SiO2—TiO2—ZrO2复合陶瓷膜 表面形貌 显微结构
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溶胶-凝胶法制备SiO_2/ZrO_2无机复合膜的研究 认领 引用 被引量：7
19
作者 张克铮 邱春阳 《材料科学与工艺》 EI CAS 北大核心 2007年第2期251-254,共4页
以硅酸乙酯和氧氯化锆为先驱体,用乙醇为溶剂,采用溶胶——凝胶法于室温下在Al2O3基体上制备了ZrO2/SiO2无机复合膜.重点考察了涂膜温度、ZrOCl2摩尔百分含量、溶胶浓度及添加剂对膜性能的影响.结果表明:在较高的温度下涂膜可以提高膜... 以硅酸乙酯和氧氯化锆为先驱体,用乙醇为溶剂,采用溶胶——凝胶法于室温下在Al2O3基体上制备了ZrO2/SiO2无机复合膜.重点考察了涂膜温度、ZrOCl2摩尔百分含量、溶胶浓度及添加剂对膜性能的影响.结果表明:在较高的温度下涂膜可以提高膜的性能;ZrOCl2的存在对渗透比的影响不大,但能够提高溶胶的交联度,从而提高制膜效率,同时也有利于渗透通量的提高;采用浓溶胶和稀溶胶结合的方式涂膜不但可以提高制膜效率,还可以提高膜的性能.添加剂TEABr能够均化膜孔径,提高膜的性能. 展开更多
关键词 溶胶——凝胶法 ZrO2/SiO2 渗透比 渗透通量 无机复合膜
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Co/ZrO_2/SiO_2催化剂F-T合成反应研究 认领 引用 被引量：3
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作者 常杰 滕波涛 +5 位作者 白亮 张荣乐 陈建刚 相宏伟 李永旺 孙予罕 《天然气化工—C1化学与化工》 北大核心 2005年第4期1-8,13,共8页
采用等温积分固定床反应器,在小粒径催化剂、高空速、消除传质作用影响的条件下,对Co/ZrO2/SiO2催化剂上的F-T合成本征反应性能进行了详细考察,结果表明CH4和C2烃的生成活化能较高,导致其偏离Anderson-Schulz-Flory分布规律;在转化率不... 采用等温积分固定床反应器,在小粒径催化剂、高空速、消除传质作用影响的条件下,对Co/ZrO2/SiO2催化剂上的F-T合成本征反应性能进行了详细考察,结果表明CH4和C2烃的生成活化能较高,导致其偏离Anderson-Schulz-Flory分布规律;在转化率不高的情况下,F-T合成中的CO消耗速率表现出对H2分压的线性依赖关系,而反应总压对CO转化率和产物分布的影响不明显.较高的反应温度和H2分压会促进烯烃的二次加氢反应,从而降低烃生成的链增长因子.H2O的分压过高会造成活性相Co0的氧化,同时抑制F-T反应活性且不利于二次反应的进行.对于以重质烃为目标产物的Co/ZrO2/SiO2催化剂而言,适宜的操作条件为:反应温度483 K、V(H2)/V(CO)=2.0和反应压力2.0～3.0MPa. 展开更多
关键词 Co/ZrO2/SiO2催化剂 Fischer-Tropsch合成 烃分布 反应性能
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