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单层SiO_2和ZrO_2薄膜激光辐照损伤的对比 认领 引用 被引量：1
1
作者 章春来 郭袁俊 +3 位作者 吕海兵 袁晓东 蒋晓东 祖小涛 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期115-118,122,共4页
分别采用物理气相沉积和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了4块光学厚度相近的Si O2和ZrO2单层膜。分别采用椭偏仪、透射式光热透镜和原子力显微镜对两类薄膜的孔隙率、热吸收和微观表面形貌进行了表征;利用Nd∶YAG激光器测试了样品的激光... 分别采用物理气相沉积和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了4块光学厚度相近的Si O2和ZrO2单层膜。分别采用椭偏仪、透射式光热透镜和原子力显微镜对两类薄膜的孔隙率、热吸收和微观表面形貌进行了表征;利用Nd∶YAG激光器测试了样品的激光损伤阈值(LIDT;1 064 nm/8.1 ns),并用光学显微镜观察了两类薄膜的损伤形貌。结果表明,化学膜的孔隙率和表面粗糙度均大于相应的物理膜;对同一类薄膜而言,Si O2化学膜的孔隙率和表面粗糙度都比ZrO2化学膜大,物理膜则相反。化学膜有更小的热吸收,其损伤阈值普遍比物理膜高出1倍,其损伤形貌多为热熔型,而物理膜多为应力型。 展开更多
关键词 SiO2/ZrO2薄膜 孔隙率 热吸收 激光损伤阈值 损伤形貌
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SiO2嵌入分离层制备高性能薄膜复合膜 认领 引用 被引量：1
2
作者 胡小杰 丰桂珍 +2 位作者 方圳生 张火梅 陈俊 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2025年第3期44-48,共5页
为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2... 为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2的添加对膜表面特性、分离性能及抗污染性能的影响。结果表明:SiO2的嵌入对膜的表面粗糙度、亲水性和负电性都有较大增强;当SiO2添加质量比为0.02%时,TFN-SiO2膜的水通量达到35.5 L/(m2·h),对Na2SO4的截留维持在95%以上,在30 h的脱盐试验中保持良好的稳定性,同时对腐殖酸(HA)、牛血清蛋白(BSA)、海藻酸钠(SA)三种模型污染物的抗污染性能有所提升。 展开更多
关键词 界面聚合 SiO2 薄膜复合膜 抗污染性
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氨处理抑制SiO_2/ZrO_2薄膜膜间渗透 认领 引用 被引量：1
3
作者 章春来 尹伟 +6 位作者 祖小涛 王毕艺 向霞 袁晓东 蒋晓东 吕海兵 郑万国 《原子能科学技术》 EI CAS 北大核心 2009年第8期711-715,共5页
以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2。研究表明,ψ和Δ两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理... 以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2。研究表明,ψ和Δ两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理可有效抑制SiO2/ZrO2双层膜之间的渗透,氨处理后渗透层减少近45 nm。利用激光束对两种样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为14.8和15.03 J/cm2,损伤形貌均为熔融型。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 SiO2/ZrO2 氨处理 椭偏模拟 膜间渗透 激光损伤阈值
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化学修饰法制备的ZrO_2-SiO_2系凝胶薄膜的感光特性研究 认领 引用 被引量：3
4
作者 赵桂荣 赵高扬 《功能材料》 EI CAS 北大核心 2002年第2期207-208,211,共2页
本研究采用溶胶 凝胶与化学修饰相结合的方法制备了xZrO2 ·(10 0 -x)SiO2 系薄膜 ,进一步研究了这种薄膜的紫外光谱特性 ,发现了当x >3 0时 ,这种凝胶薄膜在 3 3 5nm附近有较强的吸收峰 ,这一吸收峰对应于与Zr形成配位体的BzAc... 本研究采用溶胶 凝胶与化学修饰相结合的方法制备了xZrO2 ·(10 0 -x)SiO2 系薄膜 ,进一步研究了这种薄膜的紫外光谱特性 ,发现了当x >3 0时 ,这种凝胶薄膜在 3 3 5nm附近有较强的吸收峰 ,这一吸收峰对应于与Zr形成配位体的BzAcH的π π 迁移。当紫外光照射薄膜后 ,随着含Zr螯合物的分解 ,吸收峰也消失 ,并引起薄膜在有机溶剂中的溶解特性的显著变化 ,表现出明显的感光特性。这种薄膜经 40 0℃、3 0min热处理以后 ,薄膜中的有机物消失 ,可获得非晶质的ZrO2 SiO2 系薄膜 ,依据这一特性可以用紫外光对这类薄膜进行微细加工。 展开更多
关键词 熔胶-凝胶法 化学修饰 微细加工 吸光度 氧化锆-氧化硅薄膜
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ZrO_2-SiO_2薄膜对离子交换增强玻璃的光学和力学性能影响(英文) 认领 引用 被引量：1
5
作者 张鹤 周珏辉 +1 位作者 张启龙 杨辉 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期785-789,共5页
采用溶胶-凝胶法在玻璃表面制备出ZrO2-SiO2薄膜,然后通过离子交换形成镀膜增强玻璃,研究了薄膜组成对离子交换增强玻璃的力学和光学性能的影响。利用紫外可见分光光度计、激光椭偏仪、纳米压痕、三点抗弯和能谱（EDX）分析了薄膜结构... 采用溶胶-凝胶法在玻璃表面制备出ZrO2-SiO2薄膜,然后通过离子交换形成镀膜增强玻璃,研究了薄膜组成对离子交换增强玻璃的力学和光学性能的影响。利用紫外可见分光光度计、激光椭偏仪、纳米压痕、三点抗弯和能谱（EDX）分析了薄膜结构及性能。结果表明：所有薄膜均连续均匀,纯ZrO2薄膜为四方相结构,含Si薄膜为无定形结构;薄膜具有较高弹性恢复率（≥60%）以及H/E比（≥0.1）,有利于强度增强;随Si含量增加,可见光透过率增大,但表面硬度和杨氏模量随之降低;0.5ZrO2-0.5SiO2薄膜综合性能最佳：表面硬度为18 GPa,抗弯强度为393 MPa,厚度~45 nm时可见光透过率大于85%。 展开更多
关键词 离子交换玻璃 ZrO2-SiO2薄膜 溶胶-凝胶 纳米压痕
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ZrO_2-SiO_2二元系统平面光波导薄膜的制备与性能表征 认领 引用
6
作者 华斌 钱国栋 +2 位作者 徐静 何赛灵 王民权 《硅酸盐通报》 CAS 2004年第3期35-37,共3页
应用溶胶-凝胶技术,以TEOS与ZrOCl2·8H2O为先驱体,研制了用于有源光波导基质材料的ZrO2-SiO2二元系统薄膜,探明了ZrO2-SiO2二元系统薄膜折射率、厚度与薄膜组分、匀胶速度、陈化时间、热处理温度的内在关系,实现薄膜厚度和薄膜折... 应用溶胶-凝胶技术,以TEOS与ZrOCl2·8H2O为先驱体,研制了用于有源光波导基质材料的ZrO2-SiO2二元系统薄膜,探明了ZrO2-SiO2二元系统薄膜折射率、厚度与薄膜组分、匀胶速度、陈化时间、热处理温度的内在关系,实现薄膜厚度和薄膜折射率在一定范围内的连续可调,为研制一类新型的光通信窗口有源光波导材料提供了基质材料。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 ZrO2-SiO2二元薄膜 平面光波导 制备 性能 折射率 膜厚
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等离子体沉积类SiO_2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚 认领 引用 被引量：31
7
作者 海彬 章程 +3 位作者 王瑞雪 张帅 陈根永 邵涛 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期375-384,共10页
气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同... 气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同时利用Fourier变换红外光谱仪(FTIR)、高阻表和表面电位测试系统等对沉积薄膜表面进行分析。实验结果表明:沉积时间超过5 s时,环氧树脂表面形成一层以Si—O—Si及Si—OH基团为主要组成的薄膜,其厚度可达219 nm;且水接触角显著降低,表面电导率及体积电导率可提升2个数量级,相对介电常数明显降低。表面电位3维分布图结果表明,沉积处理后环氧树脂的表面电荷初始积聚减少,且消散速度加快。这是因为环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜后使材料表面陷阱能级变浅,从而抑制了表面电荷的积聚。 展开更多
关键词 环氧树脂 滑动放电 类SiO2薄膜 表面电位 电导率
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Fe3+-TiO_2/SiO_2薄膜催化剂的结构对其光催化性能影响 认领 引用 被引量：44
8
作者 付宏刚 王建强 +4 位作者 任志宇 闫鹏飞 于海涛 辛柏福 袁福龙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2003年第9期1671-1676,共6页
以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最... 以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最佳掺入量为0.03％。罗丹明B在粉体和膜催化剂的作用下遵循不同的光催化反应机理。根据XRD,SEM,Raman,XPS和FTIR的表征结果可认为,TiO_2在SIO_2表面薄膜化和Ti-O-Si键的形成是催化活性提高和降解机理不同的主要原因。 展开更多
关键词 Fe3+-TiO2/SiO2薄膜 催化剂 结构 光催化性能 溶胶-凝胶法 制备 二氧化钛
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ZrO_2助剂对Ni/SiO_2催化剂CO甲烷化催化活性及其吸附性能的影响 认领 引用 被引量：27
9
作者 武瑞芳 张因 +2 位作者 王永钊 高春光 赵永祥 《燃料化学学报》 北大核心 2009年第5期577-582,共6页
采用连续流动微反装置和原位漫反射红外光谱法考察了Ni/SiO2及添加ZrO2助剂的Ni/ZrO2-SiO2催化剂CO甲烷化催化活性和吸附性能。结果表明,在CO体积分数1%、空速5000 h-1、常压的反应条件下,200℃时Ni/ZrO2-SiO2催化剂可将CO完全转化。而... 采用连续流动微反装置和原位漫反射红外光谱法考察了Ni/SiO2及添加ZrO2助剂的Ni/ZrO2-SiO2催化剂CO甲烷化催化活性和吸附性能。结果表明,在CO体积分数1%、空速5000 h-1、常压的反应条件下,200℃时Ni/ZrO2-SiO2催化剂可将CO完全转化。而相同反应条件下Ni/SiO2催化剂上CO的转化率仅为35%,直至270℃时方可将CO完全转化。由此可见,ZrO2助剂的添加明显提高了Ni/ZrO2-SiO2催化剂的CO甲烷化催化活性。同时,ZrO2助剂的添加显著提高了Ni/ZrO2-SiO2催化剂对CO的吸附能力,H2存在时可通过在较低温度时形成较多的桥式羰基氢化物来提高Ni/ZrO2-SiO2催化剂的CO甲烷化催化活性;CO甲烷化反应条件下,Ni/SiO2和Ni/ZrO2-SiO2催化剂上C—O键的削弱和断裂是经由羰基氢化物-多氢羰基氢化物的途径,而不是经由C—O键的直接断裂途径。 展开更多
关键词 Ni/SiO2催化剂 ZrO2助剂 CO甲烷化 吸附
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热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 认领 引用 被引量：12
10
作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页
采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构
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GaSb基PECVD法制备SiO_2薄膜的应力研究 认领 引用 被引量：8
11
作者 王志伟 郝永芹 +5 位作者 李洋 谢检来 王霞 晏长岭 魏志鹏 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期935-941,共7页
为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法... 为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法模型,对镀膜前后的曲率半径进行了实验测量,利用Stoney公式计算相关应力值并绘制应力变化曲线。详细讨论了PECVD工艺条件的改变对SiO_2薄膜应力所产生的影响。同时通过在Si衬底上沉积SiO_2薄膜,对比分析了导致薄膜应力产生的因素及变化过程。实验结果表明,在沉积温度为300℃、射频功率为20 W、腔体压强为90 Pa、气体流量比SiH_4/N_2O为125/70 cm^3·min-1的工艺参数下,PECVD法在GaSb衬底上沉积的SiO_2薄膜应力相对较小。 展开更多
关键词 GaSb PECVD SiO2薄膜 应力
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工作气压对电子束沉积ZrO_2薄膜折射率和聚集密度的影响 认领 引用 被引量：7
12
作者 郝殿中 吴福全 +2 位作者 马丽丽 闫斌 张旭 《光子学报》 EI CAS 北大核心 2006年第2期224-227,共4页
采用电子束蒸发的方法,用石英晶体振荡法监控薄膜的蒸发速率,在不同工作气压下制备了ZrO2薄膜样品.在相调制型椭圆偏振光谱仪和分光光度计上对样品的光谱特性进行了测试.根据波长漂移的理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明,随着工作气... 采用电子束蒸发的方法,用石英晶体振荡法监控薄膜的蒸发速率,在不同工作气压下制备了ZrO2薄膜样品.在相调制型椭圆偏振光谱仪和分光光度计上对样品的光谱特性进行了测试.根据波长漂移的理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明,随着工作气压的降低,薄膜的聚集密度和折射率都随之增大. 展开更多
关键词 薄膜 ZrO2薄膜 折射率 聚集密度 电子束蒸发
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SiO_2气凝胶柔性保温隔热薄膜 认领 引用 被引量：19
13
作者 倪星元 程银兵 +4 位作者 马建华 吴广明 周斌 沈军 王珏 《功能材料》 EI CAS 北大核心 2003年第6期725-727,共3页
　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,... 　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,使孔洞率提高到97%,体积密度降低为50kg/m3,成为优秀的保温隔热的主体材料。选择柔性耐温隔热的聚酰亚胺作为骨架材料,并用真空蒸发镀制上金属铝膜与多孔SiO2气凝胶复合成保温隔热薄膜。当薄膜叠加到10层时其保温隔热效果可提高5倍。 展开更多
关键词 SiO2 气凝胶 柔性多层薄膜 保温隔热 溶胶-凝胶 气孔率 体积密度
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SiO_2薄膜光学常数物理模型(英文) 认领 引用 被引量：9
14
作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层
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纳米多孔SiO_2薄膜的制备与红外光谱研究 认领 引用 被引量：16
15
作者 王娟 张长瑞 +1 位作者 冯坚 杨大祥 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS 北大核心 2005年第7期1045-1048,共4页
以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄... 以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄膜含有Si-O-Si与Si-OR结构, 呈疏水性; 该SiO2薄膜热处理后因含有Si-OH基团而呈吸水性; 用三甲基氯硅烷对热处理SiO2薄膜进行修饰可使其呈疏水性, 修饰后的薄膜在N2中温度不高于450 ℃可保持其疏水性与多孔结构. 展开更多
关键词 纳米多孔 SiO2薄膜 三甲基氯硅烷 溶胶-凝胶 红外光谱
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SiO2薄膜热应力模拟计算 认领 引用 被引量：11
16
作者 吴靓臻 唐吉玉 +3 位作者 马远新 孔蕴婷 文于华 陈俊芳 《华南师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第1期52-55,共4页
薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋... 薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图,对薄膜现实生长具有一定的指导意义. 展开更多
关键词 热应力 SiO2薄膜 有限元 模拟
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PECVD提高SiO_2薄膜致密性的研究 认领 引用 被引量：7
17
作者 郭文涛 谭满清 +2 位作者 焦健 郭小峰 孙宁宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期577-581,共5页
为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶... 为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶红外光谱仪得到SiO2薄膜的红外吸收特性,采用原子力显微镜(AFM)观察SiO2薄膜的表面形貌。通过优化各工艺参数最终获得了BOE腐蚀速率为9.18 nm/s的SiO2薄膜。 展开更多
关键词 PECVD SiO2薄膜 致密性 BOE腐蚀速率
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离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整 认领 引用 被引量：9
18
作者 刘华松 王利栓 +1 位作者 姜玉刚 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2238-2243,共6页
基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获... 基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03%、71.98%和69.53%;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62%、48.49%和37.88%。得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 正交实验 折射率 应力 离子束溅射
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掺杂与应力对ZrO2薄膜电子结构和光学性质的影响 认领 引用 被引量：6
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作者 张加宏 谢丽君 +4 位作者 陈虎 顾芳 王银 吕达 冒晓莉 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1145-1150,共6页
利用基于密度泛函理论的第一性原理平面波超软赝势方法系统地研究了掺杂和应力对ZrO2薄膜的电子结构与光学性质的影响.本文首先研究了Hf原子替代掺杂对ZrO2薄膜物性的影响,研究结果表明,Hf原子掺杂减小了ZrO2薄膜的带隙和态密度大小,可... 利用基于密度泛函理论的第一性原理平面波超软赝势方法系统地研究了掺杂和应力对ZrO2薄膜的电子结构与光学性质的影响.本文首先研究了Hf原子替代掺杂对ZrO2薄膜物性的影响,研究结果表明,Hf原子掺杂减小了ZrO2薄膜的带隙和态密度大小,可在一定程度上降低其表面缺陷电荷和漏电流.掺杂Hf原子后介电峰和吸收峰的值明显下降,同时介电峰和吸收峰的波形均出现了窄化现象,半高宽显著减小.本文也着重研究了不同应力下四方晶相ZrO2薄膜物理性质变化及规律.研究发现压应力显著调控了ZrO2薄膜的带隙以及价带顶和导带底附近的能带结构.施加应力后吸收峰的吸收范围和强度均显著增大,峰值对应的光子能量蓝移则表明对紫外光的吸收随着应力的增加有所增强.在低能量红外和可见光区域,施加压应力后ZrO2薄膜的折射率变大,但在紫外线区域,压应力使ZrO2薄膜的折射率呈现出先增大后减小的波动特性.上述研究结果为ZrO2薄膜材料的设计与应用提供了理论依据. 展开更多
关键词 ZrO2薄膜 第一性原理 掺杂 应力 电子结构 光学性质
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SiO_2溶胶及其静电自组装薄膜的制备 认领 引用 被引量：6
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作者 许丕池 姜德生 +2 位作者 余海湖 李小甫 李鸿辉 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS 北大核心 2004年第2期165-170,共6页
采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl... 采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl催化制备的SiO2 透明溶胶不适合于用ESAM法制备薄膜 ,用HCl与NH3 ·H2 O分步催化以及用NH3 ·H2 O单独催化制备的SiO2 胶体适合于用ESAM法制备光学薄膜 .薄膜的透射电镜微观察结果表明 ,以HCl与NH3 ·H2 O分步催化的SiO2 胶体制备的PDDA/SiO2 薄膜为连续结构 ,NH3 ·H2 O单独催化的为颗粒堆积 .研究了薄膜透光率与薄膜层数的关系 ,考察了薄膜的机械强度 .结果显示 ,以NH3 ·H2 O单独催化的SiO2 胶体制备的光学薄膜的增透效果较好 。 展开更多
关键词 SiO2 溶胶 静电自组装 复合薄膜
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