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有机-无机复合SiO2膜的制备及水蒸气稳定性能研究 认领 引用 被引量：13
1
作者 漆虹 韩静 +2 位作者 江晓骆 邢卫红 范益群 《无机材料学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2010年第7期758-764,共7页
以1,2-二(三乙氧基硅基)乙烷为前驱体,通过溶胶-凝胶法合成出稳定的纳米复合SiO2溶胶,采用浸浆法在具有γ-Al2O3/α-Al2O3结构的片状载体上涂膜,然后在N2气氛下烧成得到完整无缺陷的有机-无机复合SiO2膜.以TG/DSC、BET和气体渗透性能测... 以1,2-二(三乙氧基硅基)乙烷为前驱体,通过溶胶-凝胶法合成出稳定的纳米复合SiO2溶胶,采用浸浆法在具有γ-Al2O3/α-Al2O3结构的片状载体上涂膜,然后在N2气氛下烧成得到完整无缺陷的有机-无机复合SiO2膜.以TG/DSC、BET和气体渗透性能测试等手段对复合SiO2膜及粉体进行了表征.该膜对小分子气体(He、CO2、O2、N2、CH4和SF6)的分离表现出分子筛分效应,对He的渗透通量为(1.0～3.5)×10-7mol/(m2·s·Pa)(200℃,0.3MPa).500℃烧成的膜对He/CO2的理想分离因子为47,远远高于Knudsen扩散时He/CO2的理想分离因子(3.3).详细考察了烧成温度对膜水热稳定性的影响.结果表明:在450、500和550℃三个温度下烧成的膜水蒸气稳定条件(分压)分别为200、500和1000kPa。 展开更多
关键词 微孔陶瓷膜 有机-无机复合SiO2膜 水热稳定性 气体分离
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微孔SiO2膜在水蒸气条件下的稳定性能 认领 引用 被引量：3
2
作者 漆虹 韩静 +3 位作者 江晓骆 陶振 邢卫红 范益群 《过程工程学报》 CAS 北大核心 2010年第1期161-166,共6页
以正硅酸乙酯为前驱体,通过聚合溶胶路线制备出稳定的SiO2溶胶和制膜液,采用浸浆法,经过一次涂膜,在平均孔径约为3nm的γ-Al2O3中孔膜上制备出完整无缺陷的SiO2微孔膜,考察了烧成温度对SiO2粉末和SiO2微孔膜气体渗透性能的影响.结果表明... 以正硅酸乙酯为前驱体,通过聚合溶胶路线制备出稳定的SiO2溶胶和制膜液,采用浸浆法,经过一次涂膜,在平均孔径约为3nm的γ-Al2O3中孔膜上制备出完整无缺陷的SiO2微孔膜,考察了烧成温度对SiO2粉末和SiO2微孔膜气体渗透性能的影响.结果表明,在400～800℃焙烧温度下制备的SiO2膜在200℃及0.3MPa条件下对He的渗透通量为(7.29～12.7)×10-7mol/(m2·s·Pa),600℃下烧成的膜的理想分离因子分别为98(He/CO2),49(He/O2),64(He/N2),79(He/CH4)和91(He/SF6),具有分子筛分效应.微孔SiO2膜在水蒸气条件下的稳定性能取决于膜的烧成温度,400,600和800℃烧成的膜的水蒸气稳定压力分别为8,200和200kPa. 展开更多
关键词 微孔陶瓷膜 SiO2膜 水热稳定性 气体分离
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Sr掺杂SiO2膜的制备及其脱盐性能研究 认领 引用 被引量：2
3
作者 邵琦 张华宇 +2 位作者 袁嫒 任海婷 张小亮 《江西师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2020年第4期411-416,共6页
以正硅酸四乙酯(TEOS)为硅烷前驱体,以氯化锶(SrCl2)为Sr源,采用溶胶-凝胶法制备了Sr掺杂的SiO2膜.通过系列表征结果证实:在水解缩合反应过程中Sr被掺杂到SiO2骨架中,形成了水热稳定的Si—O—Sr键,明显地改变了膜的表面形貌、微观结构... 以正硅酸四乙酯(TEOS)为硅烷前驱体,以氯化锶(SrCl2)为Sr源,采用溶胶-凝胶法制备了Sr掺杂的SiO2膜.通过系列表征结果证实:在水解缩合反应过程中Sr被掺杂到SiO2骨架中,形成了水热稳定的Si—O—Sr键,明显地改变了膜的表面形貌、微观结构和亲水性,从而提高了膜的脱盐性能和稳定性.在优化合成条件(n(Sr)∶n(TEOS)=0.075∶1.000)下所制备的Sr/SiO2膜的脱盐性能最佳.在60℃条件下,当以质量分数为3.5%的NaCl溶液为进料液时,该膜的水通量高达20.7 kg·m-2·h-1,盐截留率接近100.0%.此外,在35~60℃连续性温度循环测试中,该膜显示出了优异的水热稳定性. 展开更多
关键词 SiO2膜 Sr 掺杂 渗透汽化脱盐 稳定性
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孔结构梯度分布SiO2膜的仿生合成 认领 引用 被引量：2
4
作者 张金利 李(韦华) +3 位作者 朱丽 孟祥坤 杨文莉 王一平 《化学学报》 SCIE CAS 北大核心 2001年第11期1957-1960,共4页
以正硅酸乙酯为硅源,十六烷基三甲基溴化铵大分子的组装体为有机模板,研究在气-液界面仿生合成SiO2膜的过程.考察了影响成膜的主要因素并优化了操作条件,进而仿生合成了孔结构梯度分布的无机膜.SEM与孔径分布表征,表明所制备的SiO2膜顶... 以正硅酸乙酯为硅源,十六烷基三甲基溴化铵大分子的组装体为有机模板,研究在气-液界面仿生合成SiO2膜的过程.考察了影响成膜的主要因素并优化了操作条件,进而仿生合成了孔结构梯度分布的无机膜.SEM与孔径分布表征,表明所制备的SiO2膜顶层孔径为1.9 Rm,底部的则为25nm,膜的比表面积为313.5m2·g-1. 展开更多
关键词 仿生合成 SiO2膜 生物矿化 自组装 二氧化硅薄膜 比表面积 孔径 表征 正硅酸乙酯 十六烷基三甲基溴化铵
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关于薄SiO2膜击穿的碰撞电离模型 认领 引用
5
作者 张积之 《上海半导体》 1992年第2期34-40,共7页
关键词 SiO2膜 击穿 碰撞电离 MOS器件 IC
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从Si到快速热氮化SiO2膜的雪崩热电子注入 认领 引用
6
作者 杨光月 陈蒲生 《半导体杂志》 1990年第2期6-8,共3页
关键词 SiO2膜 热氮化 雪崩 热电子注入
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基于PTFE/SiO2多孔膜的气味标准样品制备及其散发特性研究 认领 引用
7
作者 贾依婷 刘凝 +6 位作者 刘未杰 刘锦华 张艳妮 孙芃 宁占武 张晶晶 赵鹏 《材料科学》 2025年第7期1496-1505,共10页
针对气味标准样品稳定性差、散发速率不可控等问题,本研究设计了一种基于气体扩散原理的筒式气味散发装置,并开发了PTFE/SiO2多孔膜的冷压制备技术。通过调控SiO2粉末的目数、配比及工艺参数,实现多孔膜孔径与孔隙率的精准调控。基于此... 针对气味标准样品稳定性差、散发速率不可控等问题,本研究设计了一种基于气体扩散原理的筒式气味散发装置,并开发了PTFE/SiO2多孔膜的冷压制备技术。通过调控SiO2粉末的目数、配比及工艺参数,实现多孔膜孔径与孔隙率的精准调控。基于此制备了正丁醇、甲基环戊酮等五种气味标准样品,利用重量法和环境舱法对其散发特性及稳定性进行了研究。实验表明,正丁醇与甲基环戊酮样品在20天内的质量变化线性关系显著(R2 ≥ 0.99),且可通过调节膜参数、温度及面积实现散发速率的定向优化。本研究提出了标准气味样品制备的新方法,对推动嗅觉检测标准化具有重要的理论与技术支撑作用。 展开更多
关键词 PTFE/SiO2多孔膜 气味标准样品 冷压工艺 散发速率
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疏水增透SiO_2膜的制备及其性能研究 认领 引用 被引量：14
8
作者 张晔 吴东 +1 位作者 孙予罕 彭少逸 《物理化学学报》 SCIE CAS 北大核心 2002年第4期355-358,共4页
以正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)为前驱体,在碱催化体系中通过选择合适的原料配比以及对体系溶胶-凝胶过程的控制使DDS和TEOS的水解产物发生共缩聚反应,进而制备出改性的SiO2溶胶,并采用旋转镀膜法(spin-coating)直接获得... 以正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)为前驱体,在碱催化体系中通过选择合适的原料配比以及对体系溶胶-凝胶过程的控制使DDS和TEOS的水解产物发生共缩聚反应,进而制备出改性的SiO2溶胶,并采用旋转镀膜法(spin-coating)直接获得了同时具有良好疏水和增透性能的SiO2光学膜,克服了增透膜防潮性能差的缺点.同时采用透射电子显微镜(TEM)、粒度分布(SDP)等手段研究了不同条件下溶胶的性质及其对膜层性能的影响,并与未经改性的SiO2增透膜进行了比较,结果表明改性后的膜层不仅疏水性大大增加,且在相同镀膜条件下,膜层的厚度随着老化时间的延长增加较小,故其透过率曲线在300～800nm范围内不易出现多个增透峰. 展开更多
关键词 疏水增透 SiO2膜 制备 性能 溶胶-凝胶 正硅酸乙酯-二甲基二乙氧基硅烷 旋转镀膜 二氧化硅薄膜 玻璃
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表面修饰的有机-无机杂化微孔SiO_2膜的制备及氢气分离性能 认领 引用 被引量：7
9
作者 段小勇 韦奇 +3 位作者 何俊 闫建平 李群艳 聂祚仁 《高等学校化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第10期2256-2261,共6页
采用苯基三乙氧基硅烷(PTES)和1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了苯基修饰的有机-无机杂化SiO2膜材料.通过N2吸附、视频光学接触角测量、热重分析和红外光谱对膜材料的孔结构和疏水性能进行了表征,并深入... 采用苯基三乙氧基硅烷(PTES)和1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了苯基修饰的有机-无机杂化SiO2膜材料.通过N2吸附、视频光学接触角测量、热重分析和红外光谱对膜材料的孔结构和疏水性能进行了表征,并深入研究了膜材料的氢气渗透和分离性能.结果表明,修饰后的膜材料具有微孔结构,孔径集中分布在0.4～0.6 nm.在温度为40℃,湿度为70%～80%的水热环境下陈化30 d后,膜材料仍保持微孔结构.苯基修饰后膜材料具有疏水性,当n(PTES)(BTESE)=0.6时,膜材料对水的接触角达到(125±0.4)°.氢气在膜材料中的输运遵循活化扩散机理,300℃时,膜材料的H2渗透率达到8.71×10-7mol.m-2.Pa-1.s-1,H2/CO2的理想分离系数达到5.53. 展开更多
关键词 有机-无机杂化SiO2膜 苯基 孔结构 氢气分离
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仿生制备SiO_2分离膜的实验 认领 引用 被引量：7
10
作者 王一平 朱丽 +2 位作者 张金利 胡彤宇 李韦华 《化学工程》 EI CAS 北大核心 2005年第1期56-59,78,共4页
以表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)在溶液中的自组装胶束为有机模板,对无机前躯体正硅酸乙酯(TEOS)的水解缩聚过程进行调控,于SiO2 无机膜中复制出了具有自组装体形状的三维孔结构。孔径分布测定结果表明优化物料条件下制备出的... 以表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)在溶液中的自组装胶束为有机模板,对无机前躯体正硅酸乙酯(TEOS)的水解缩聚过程进行调控,于SiO2 无机膜中复制出了具有自组装体形状的三维孔结构。孔径分布测定结果表明优化物料条件下制备出的非担载SiO2 膜具有 1. 8nm的最可几孔径,平均孔径为 5. 3nm。对比传统的sol gel制膜方法,其孔径分布不受灼烧条件的影响。该膜的广角XRD分析结果表明组成介孔壁面的SiO2 为非晶型结构,该膜的小角度XRD分析结果进一步表明,膜内介孔道的排列形式为三维空间上的无序网络结构。将优化物料条件下的混合物旋涂于多孔Al2O3 陶瓷载体上,进一步制备出了SiO2 分离膜,该膜的SEM表征和气体渗透性能测定结果表明其完整性能较好。 展开更多
关键词 有机模板 无机分离膜 SiO2膜
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仿生制备非担载SiO_2无机膜的实验研究 认领 引用 被引量：5
11
作者 朱丽 王一平 +1 位作者 胡彤宇 李韡 《无机材料学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2004年第3期696-700,共5页
以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板,利用仿生合成技术于气-液界面制备出非担载的SiO_2无机膜.考察了仿生制备SiO_2膜过程中TEOS和CTAB的初始浓度及溶液pH值对膜质量的影响,并在优化所得物料条件下考察了... 以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板,利用仿生合成技术于气-液界面制备出非担载的SiO_2无机膜.考察了仿生制备SiO_2膜过程中TEOS和CTAB的初始浓度及溶液pH值对膜质量的影响,并在优化所得物料条件下考察了干燥添加剂丙二醇和灼烧条件对膜质量的影响.各种分析和表征结果说明制备出的SiO_2仿生膜具有1.8nm的最可几孔径,且上表面光滑平整. 展开更多
关键词 仿生合成 SiO2膜 无机膜 复合材料
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大气常压等离子射流清洗溶胶-凝胶SiO_2膜表面油脂污染物 认领 引用 被引量：6
12
作者 刘昊 苗心向 +7 位作者 杨科 吕海兵 邹睿 周国瑞 程晓峰 严鸿维 袁晓东 贾宝申 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期112-117,共6页
采用大气常压等离子射流技术对溶胶-凝胶SiO2膜表面的油脂污染物进行清洗。利用分光光度计、扫描电子显微镜、红外光谱仪对溶胶-凝胶SiO2膜透过率、表面形貌、化学结构进行表征,并分析清洗前后溶胶-凝胶SiO2膜的激光损伤阈值变化。损伤... 采用大气常压等离子射流技术对溶胶-凝胶SiO2膜表面的油脂污染物进行清洗。利用分光光度计、扫描电子显微镜、红外光谱仪对溶胶-凝胶SiO2膜透过率、表面形貌、化学结构进行表征,并分析清洗前后溶胶-凝胶SiO2膜的激光损伤阈值变化。损伤阈值测试表明,1064nm波长的激光损伤阈值由污染后的16.08J/cm2上升到24.41J/cm2,与污染前24.72J/cm2的损伤阈值相当。同时还获取清洗的最佳时间为10s。清洗前后,溶胶-凝胶SiO2膜保持完好,且未产生新的有机污染物。研究结果表明:大气常压等离子射流技术可对溶胶-凝胶SiO2膜表面的油脂污染物进行有效地清洗,从而提高溶胶-凝胶SiO2膜的透过率和激光损伤阈值,为高功率激光装置的稳定运行提供保障。 展开更多
关键词 大气常压等离子射流 溶胶-凝胶SiO2膜 高功率激光真空系统 油脂污染物 激光损伤阈值
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快速热氮化SiO_2膜陷阱特性的研究 认领 引用 被引量：11
13
作者 陈蒲生 杨光有 刘百勇 《Journal of Semiconductors》 CAS 北大核心 1990年第6期465-469,共5页
本文采用雪崩热电子注入技术研究了快速热氯化SiO_2膜和氮化后再氧化SiO_2膜的体电子陷阱和界面态特性。揭示出电子陷阱的起源和放电机理;观察并解释了界面态密度随氮化时间以及平带电压漂移随注入时间的变化关系;提出降低体电子陷阱密... 本文采用雪崩热电子注入技术研究了快速热氯化SiO_2膜和氮化后再氧化SiO_2膜的体电子陷阱和界面态特性。揭示出电子陷阱的起源和放电机理;观察并解释了界面态密度随氮化时间以及平带电压漂移随注入时间的变化关系;提出降低体电子陷阱密度和界面态密度的有效途径。 展开更多
关键词 SiO2膜 热氮化 电子陷阱 电子注入
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气-液界面非担载SiO_2无机膜的仿生制备 认领 引用 被引量：4
14
作者 王一平 朱丽 +1 位作者 李韡 郭翠梨 《无机材料学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2002年第1期175-179,共5页
利用有机大分子CTAB的自组装体为模板来调制正硅酸乙酯（TEOS）的水解缩聚，于气－液界面上制备出非担载的SiO2无机膜．对取膜时间进行了选择，考察了仿生制备SiO2膜过程中物料配比对成膜质量的影响，对其进行了优化。由CTAB极性头基排... 利用有机大分子CTAB的自组装体为模板来调制正硅酸乙酯（TEOS）的水解缩聚，于气－液界面上制备出非担载的SiO2无机膜．对取膜时间进行了选择，考察了仿生制备SiO2膜过程中物料配比对成膜质量的影响，对其进行了优化。由CTAB极性头基排列而成的六边形区域聚集于溶液表面，TEOS在其内部的水解缩聚及随后的层层复制过程形成了仿生合成膜的空间网络结构． 展开更多
关键词 仿生合成 气-液界面 SiO2膜 无机膜 二氧化硅 CTAB 自组装 正硅酸乙酯 水解缩聚
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气-液界面有序介孔SiO_2无机膜的仿生合成 认领 引用 被引量：3
15
作者 张学骜 吴文健 +1 位作者 刘长利 王建方 《无机化学学报》 SCIE CAS 北大核心 2006年第4期719-723,共5页
Ordered mesoporous silica inorganic films were prepared in an acid solution at the air-solution interface by the biomimetic synthesis method, during which the hydrolysis of tetraethoxy silane (TEOS) was directed by ce... Ordered mesoporous silica inorganic films were prepared in an acid solution at the air-solution interface by the biomimetic synthesis method, during which the hydrolysis of tetraethoxy silane (TEOS) was directed by cetyltrimethyl ammonium bromide (CTAB) supramolecule self-assemblies. The effects of material ratio, pH and sampling time on the qualities of silica films were investigated. Fourier transform infrared (FTIR) spectrophotometer, High resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and selected area electron diffraction (SAED) were used to measure the biomimetic synthesized silica films extracted with 0.50 mol·L-1 hydrochloric acid ethanol solution. The results indicate that the structure of hexagonal ordered mesoporous is maintained, while the surfactant is removed effectively in mesoporous silica films. 展开更多
关键词 仿生合成 有序介孔 SiO2膜 自组装 萃取
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KH-570修饰的SiO_2膜制备及CH_4/CO_2的分离 认领 引用 被引量：2
16
作者 李文秀 张兵 +2 位作者 陈立峰 张冰 张志刚 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期638-641,共4页
采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后(0.8KH-570)SiO2膜接触角达到94.2°... 采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后(0.8KH-570)SiO2膜接触角达到94.2°,红外光谱分析表明修饰后SiO2膜疏水性增强;(0.8KH-570)SiO2膜具有完整性及在400℃水热稳定性;压差30kPa,分离因子随涂膜次数增加先增大后减小,涂膜5次达最大值2.13,超越了努森扩散理论分离因子1.66,此时分离效果好;对于涂膜5次的SiO2膜,CH4渗透通量随压差增加呈现非线性微增趋势,CH4/CO2分离因子几乎不变。 展开更多
关键词 SiO2膜 接触角 疏水性 气体渗透 分离因子
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玻璃负载纳米TiO_2/SiO_2膜的制备和光催化性能 认领 引用 被引量：3
17
作者 李建生 刘炳光 +1 位作者 王少杰 董学通 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期60-63,共4页
制备了玻璃负载纳米TiO2/SiO2光催化膜,以甲基橙溶液作为模拟废水研究了其光催化性能,分别考察了光催化膜中m（Ti O2）∶m（SiO2）、膜厚度、使用次数和中试扩大以及再生方式对甲基橙模拟废水降解率的影响。试验结果表明,在太阳光下照射... 制备了玻璃负载纳米TiO2/SiO2光催化膜,以甲基橙溶液作为模拟废水研究了其光催化性能,分别考察了光催化膜中m（Ti O2）∶m（SiO2）、膜厚度、使用次数和中试扩大以及再生方式对甲基橙模拟废水降解率的影响。试验结果表明,在太阳光下照射4 h,厚度为200-400nm的光催化膜对10mg/L的甲基橙模拟废水降解率为84%,失活的光催化膜可用模拟风、光、酸雨和人工清洗方式再生。纳米TiO2/SiO2光催化膜可应用于光催化水处理设备、建筑易清洁玻璃和太阳电池玻璃。 展开更多
关键词 纳米TiO2 TiO2/SiO2膜 光催化
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溶胶-凝胶-模板法制备疏水SiO2膜及CH4/CO2分离性能研究 认领 引用 被引量：2
18
作者 张志刚 王鑫 +2 位作者 刘冰心 汪星星 李文秀 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期148-151,共4页
以γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(A-174)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板剂,通过溶胶-凝胶-模板法制备疏水性的SiO2膜。采用BET、DTG、IR、SEM及接触角测试仪等对膜材料进行表征,并进行... 以γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(A-174)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板剂,通过溶胶-凝胶-模板法制备疏水性的SiO2膜。采用BET、DTG、IR、SEM及接触角测试仪等对膜材料进行表征,并进行了CH4/CO2分离性能及稳定性的评价。结果表明,疏水基团引入到SiO2膜材料中,水接触角达到108.8°,膜材料具备良好的疏水性及稳定性,且模板剂的加入使膜材料孔结构更加发达,气体的渗透通量和透过选择性增大,更适合CH4/CO2气体分离。在压差80kPa时,CH4渗透通量最大达到2.45×10-7mol/(m2·s·Pa),CH4/CO2气体的分离因子最大达到2.67,高于Knudsen扩散理想分离因子1.66。 展开更多
关键词 SiO2膜 疏水性 模板剂 气体分离 稳定性
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中频反应溅射SiO_2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀 认领 引用 被引量：3
19
作者 许生 侯晓波 +6 位作者 范垂祯 赵来 周海军 吴克坚 高文波 颜远全 查良镇 《真空》 CAS 北大核心 2002年第5期15-18,共4页
多数 ITO透明导电玻璃生产线在实现 Si O2 膜与 ITO膜在线联镀时 ,应用 Si O2 靶射频溅射沉积 Si O2膜工艺和 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜工艺 ,如果 Si O2 膜应用硅靶反应磁控溅射工艺 ,存在这种工艺是否可以与 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜... 多数 ITO透明导电玻璃生产线在实现 Si O2 膜与 ITO膜在线联镀时 ,应用 Si O2 靶射频溅射沉积 Si O2膜工艺和 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜工艺 ,如果 Si O2 膜应用硅靶反应磁控溅射工艺 ,存在这种工艺是否可以与 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工 ,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究 ,成功地实现反应溅射 Si O2 膜与 ITO膜在线联镀 ,做到Si O2 镀膜室的工作状态的变化基本上不影响 展开更多
关键词 中频反应溅射 SiO2膜 直流溅射 ITO膜 在线联镀 二氧化硅 透明导电玻璃 镀膜工艺
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溶胶凝胶-模板技术合成负载型中孔SiO_2膜 认领 引用 被引量：3
20
作者 李传峰 钟顺和 李青 《硅酸盐学报》 EI CAS 北大核心 2002年第3期352-356,共5页
将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表... 将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表明 :两类膜成膜情况良好 ,硅溶胶与模板剂形成键联型交联 ,由有机硅源制备的SiO2 膜晶相和非晶相共存 ,平均孔径 4.2nm ,最高有机分解温度 2 97℃ .而由无机硅源制得的SiO2 膜全部为晶态结构 ,平均孔径为 6.0nm ,最高有机分解温度 2 75℃ .气体在这两类膜中的渗透均由Knudsen扩散控制 . 展开更多
关键词 溶胶凝胶-模板技术 二氧化硅膜 结构表征 气体渗透性能 负载型中孔SiO2膜
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