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SiO2嵌入分离层制备高性能薄膜复合膜 认领 引用 被引量：1
1
作者 胡小杰 丰桂珍 +2 位作者 方圳生 张火梅 陈俊 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2025年第3期44-48,共5页
为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2... 为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO2)作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO2),研究SiO2的添加对膜表面特性、分离性能及抗污染性能的影响。结果表明:SiO2的嵌入对膜的表面粗糙度、亲水性和负电性都有较大增强;当SiO2添加质量比为0.02%时,TFN-SiO2膜的水通量达到35.5 L/(m2·h),对Na2SO4的截留维持在95%以上,在30 h的脱盐试验中保持良好的稳定性,同时对腐殖酸(HA)、牛血清蛋白(BSA)、海藻酸钠(SA)三种模型污染物的抗污染性能有所提升。 展开更多
关键词 界面聚合 SiO2 薄膜复合膜 抗污染性
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溶胶-凝胶法制备Al_2O_3-ZrO_2-SiO_2复合薄膜 认领 引用 被引量：10
2
作者 王黔平 田秀淑 +2 位作者 王金峰 赵春荣 王聚亮 《水处理技术》 CAS 北大核心 2004年第2期75-77,共3页
本文采用溶胶-凝胶法以异丙醇铝、正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料,HNO3为催化剂,PVA为成膜助剂,在多孔陶瓷管上制得了Al2O3-ZrO2-SiO2复合薄膜。研究了组分配比对溶胶性质的影响,结果表明Al2O3∶ZrO2∶SiO2在8∶1∶2～12∶1∶2之间时可得... 本文采用溶胶-凝胶法以异丙醇铝、正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料,HNO3为催化剂,PVA为成膜助剂,在多孔陶瓷管上制得了Al2O3-ZrO2-SiO2复合薄膜。研究了组分配比对溶胶性质的影响,结果表明Al2O3∶ZrO2∶SiO2在8∶1∶2～12∶1∶2之间时可得到性能符合要求的溶胶。通过扫描电镜可观察到膜的孔径为2～5μm,且膜与基底结合良好。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 Al2O3-ZrO2-SiO2复合薄膜 异丙醇铝 正硅酸乙酯 氧氯化锆 陶瓷膜
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溶胶-凝胶法制备Al_2O_3-SiO_2-ZrO_2薄膜工艺参数探讨 认领 引用 被引量：1
3
作者 董旭娟 同帜 +2 位作者 崔双科 胡敏盾 邹力 《膜科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期44-48,共5页
用溶胶-凝胶法制备Al2O3-SiO2-ZrO2复合薄膜,研究溶胶成分和烧结工艺对薄膜质量的影响.通过黏度测试、热重分析、X射线衍射分析(XRD)及原子力显微镜分析(AFM)等测试方法对溶胶的稳定性、复合膜的热稳定性、晶相组成及表面形貌等进行分析... 用溶胶-凝胶法制备Al2O3-SiO2-ZrO2复合薄膜,研究溶胶成分和烧结工艺对薄膜质量的影响.通过黏度测试、热重分析、X射线衍射分析(XRD)及原子力显微镜分析(AFM)等测试方法对溶胶的稳定性、复合膜的热稳定性、晶相组成及表面形貌等进行分析.结果表明,当Al2O3∶SiO2∶ZrO2(mol/mol/mol)=1∶2∶0.5时,制得的溶胶粘度适中为3.22mPa·s、透明稳定,且干凝胶无开裂;以0.5℃/min的升温速率升至600℃焙烧2h,并在75℃和240℃附近以0.25℃/min的速率缓慢升温且适当保温后,可得外观透明、性能稳定的Al2O3-SiO2-ZrO2复合薄膜,并且薄膜呈致密性、表面平整、结构均匀、无裂纹. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 Al2O3-SiO2-ZrO2复合薄膜 膜层开裂 溶胶稳定性
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等离子体沉积类SiO_2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚 认领 引用 被引量：31
4
作者 海彬 章程 +3 位作者 王瑞雪 张帅 陈根永 邵涛 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期375-384,共10页
气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同... 气体绝缘设备中的环氧树脂材料在直流高压下易积聚表面电荷,引发沿面闪络事故。为了抑制环氧树脂材料表面电荷的积聚,采用交流电源激励的滑动放电产生低温等离子体,并以正硅酸乙酯(TEOS)为反应前驱物在环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜,同时利用Fourier变换红外光谱仪(FTIR)、高阻表和表面电位测试系统等对沉积薄膜表面进行分析。实验结果表明:沉积时间超过5 s时,环氧树脂表面形成一层以Si—O—Si及Si—OH基团为主要组成的薄膜,其厚度可达219 nm;且水接触角显著降低,表面电导率及体积电导率可提升2个数量级,相对介电常数明显降低。表面电位3维分布图结果表明,沉积处理后环氧树脂的表面电荷初始积聚减少,且消散速度加快。这是因为环氧树脂表面沉积类SiO_2薄膜后使材料表面陷阱能级变浅,从而抑制了表面电荷的积聚。 展开更多
关键词 环氧树脂 滑动放电 类SiO2薄膜 表面电位 电导率
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SiO_2-ZrO_2陶瓷型芯与DZ125,DD5和DD6三种铸造高温合金的界面反应 认领 引用 被引量：23
5
作者 王丽丽 李嘉荣 +1 位作者 唐定中 刘世忠 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期9-14,共6页
采用热压注工艺制备以钙稳定氧化锆为矿化剂的SiO2-ZrO2陶瓷型芯试板,继而通过定向凝固分别在1510℃和1530℃制备SiO2-ZrO2型芯与DZ125,DD5和DD6三种高温合金的界面反应空心试板,将空心试板于相同高度处横向剖开,对获得的合金/型芯界面... 采用热压注工艺制备以钙稳定氧化锆为矿化剂的SiO2-ZrO2陶瓷型芯试板,继而通过定向凝固分别在1510℃和1530℃制备SiO2-ZrO2型芯与DZ125,DD5和DD6三种高温合金的界面反应空心试板,将空心试板于相同高度处横向剖开,对获得的合金/型芯界面反应试样的微观形貌进行SEM和EDS分析。结果表明,SiO2-ZrO2陶瓷型芯在1500℃以上的高温化学稳定性差,与DZ125,DD5和DD6合金均发生不同程度的界面化学反应,反应产物类型与合金成分密切相关。对于Hf含量较高的DZ125合金来说,合金中Hf与SiO2-ZrO2型芯中的SiO2反应生成HfO2,并在合金表面富集,阻止了合金中Al与型芯的反应。对于Hf含量较低的DD5,DD6合金来说,合金与SiO2-ZrO2型芯界面反应的产物是Al2O3,其由合金中Al与SiO2反应生成,而矿化剂钙稳定氧化锆对这一界面反应有促进作用。 展开更多
关键词 SiO2-ZrO2陶瓷型芯 DZ125 DD5 DD6 界面反应 钙稳定氧化锆
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SiO_2-ZrO_2复合膜的制备及其工艺参数的研究 认领 引用 被引量：4
6
作者 同帜 胡敏盾 +2 位作者 董旭娟 邹力 李海红 《膜科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期35-38,45,共4页
采用溶胶-凝胶法制备SiO2-ZrO2复合薄膜,研究溶胶成分和烧结工艺对薄膜开裂及其性能的影响.采用乌氏黏度计、热重分析仪(TG-DTG)、X射线衍射分析仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表征.结果显示,溶胶的组成、特定温度的升温速率对... 采用溶胶-凝胶法制备SiO2-ZrO2复合薄膜,研究溶胶成分和烧结工艺对薄膜开裂及其性能的影响.采用乌氏黏度计、热重分析仪(TG-DTG)、X射线衍射分析仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表征.结果显示,溶胶的组成、特定温度的升温速率对薄膜的开裂起决定性作用;当摩尔比为n(SiO2)∶n(ZrO2)=2.0∶0.5时,制得溶胶黏度适中、透明稳定,干燥的凝胶在0.5℃/min的升温速率下升至600℃焙烧2h,并在75、190和230℃附近缓慢升温且适当保温后,可得无裂缝且均匀、透明的SiO2-ZrO2复合薄膜,所制备的薄膜具有较大的比表面积和较窄的孔径分布. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 SiO2-ZrO2复合薄膜 防开裂 溶胶稳定性
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Fe3+-TiO_2/SiO_2薄膜催化剂的结构对其光催化性能影响 认领 引用 被引量：44
7
作者 付宏刚 王建强 +4 位作者 任志宇 闫鹏飞 于海涛 辛柏福 袁福龙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2003年第9期1671-1676,共6页
以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最... 以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe3+的TiO_2光催化剂(Fe3+-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe3+-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe3+的最佳掺入量为0.03％。罗丹明B在粉体和膜催化剂的作用下遵循不同的光催化反应机理。根据XRD,SEM,Raman,XPS和FTIR的表征结果可认为,TiO_2在SIO_2表面薄膜化和Ti-O-Si键的形成是催化活性提高和降解机理不同的主要原因。 展开更多
关键词 Fe3+-TiO2/SiO2薄膜 催化剂 结构 光催化性能 溶胶-凝胶法 制备 二氧化钛
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热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 认领 引用 被引量：12
8
作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页
采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构
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GaSb基PECVD法制备SiO_2薄膜的应力研究 认领 引用 被引量：8
9
作者 王志伟 郝永芹 +5 位作者 李洋 谢检来 王霞 晏长岭 魏志鹏 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期935-941,共7页
为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法... 为了实现在GaSb衬底上获得低应力的SiO_2薄膜,研究了等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在晶格失配较大的GaSb衬底上沉积SiO_2薄膜的应力情况。通过改变薄膜沉积时的工艺条件,如反应温度、射频功率、反应压强、气体流量比,并基于曲率法模型,对镀膜前后的曲率半径进行了实验测量,利用Stoney公式计算相关应力值并绘制应力变化曲线。详细讨论了PECVD工艺条件的改变对SiO_2薄膜应力所产生的影响。同时通过在Si衬底上沉积SiO_2薄膜,对比分析了导致薄膜应力产生的因素及变化过程。实验结果表明,在沉积温度为300℃、射频功率为20 W、腔体压强为90 Pa、气体流量比SiH_4/N_2O为125/70 cm^3·min-1的工艺参数下,PECVD法在GaSb衬底上沉积的SiO_2薄膜应力相对较小。 展开更多
关键词 GaSb PECVD SiO2薄膜 应力
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SiO_2气凝胶柔性保温隔热薄膜 认领 引用 被引量：19
10
作者 倪星元 程银兵 +4 位作者 马建华 吴广明 周斌 沈军 王珏 《功能材料》 EI CAS 北大核心 2003年第6期725-727,共3页
　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,... 　由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2/PI/Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶 凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度,尝试了在溶胶 凝胶过程中先酸性后碱性的二步法催化,使孔洞率提高到97%,体积密度降低为50kg/m3,成为优秀的保温隔热的主体材料。选择柔性耐温隔热的聚酰亚胺作为骨架材料,并用真空蒸发镀制上金属铝膜与多孔SiO2气凝胶复合成保温隔热薄膜。当薄膜叠加到10层时其保温隔热效果可提高5倍。 展开更多
关键词 SiO2 气凝胶 柔性多层薄膜 保温隔热 溶胶-凝胶 气孔率 体积密度
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SiO_2薄膜光学常数物理模型(英文) 认领 引用 被引量：9
11
作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层
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纳米多孔SiO_2薄膜的制备与红外光谱研究 认领 引用 被引量：16
12
作者 王娟 张长瑞 +1 位作者 冯坚 杨大祥 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS 北大核心 2005年第7期1045-1048,共4页
以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄... 以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄膜含有Si-O-Si与Si-OR结构, 呈疏水性; 该SiO2薄膜热处理后因含有Si-OH基团而呈吸水性; 用三甲基氯硅烷对热处理SiO2薄膜进行修饰可使其呈疏水性, 修饰后的薄膜在N2中温度不高于450 ℃可保持其疏水性与多孔结构. 展开更多
关键词 纳米多孔 SiO2薄膜 三甲基氯硅烷 溶胶-凝胶 红外光谱
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SiO2薄膜热应力模拟计算 认领 引用 被引量：11
13
作者 吴靓臻 唐吉玉 +3 位作者 马远新 孔蕴婷 文于华 陈俊芳 《华南师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第1期52-55,共4页
薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋... 薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图,对薄膜现实生长具有一定的指导意义. 展开更多
关键词 热应力 SiO2薄膜 有限元 模拟
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PECVD提高SiO_2薄膜致密性的研究 认领 引用 被引量：7
14
作者 郭文涛 谭满清 +2 位作者 焦健 郭小峰 孙宁宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期577-581,共5页
为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶... 为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响。实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶红外光谱仪得到SiO2薄膜的红外吸收特性,采用原子力显微镜(AFM)观察SiO2薄膜的表面形貌。通过优化各工艺参数最终获得了BOE腐蚀速率为9.18 nm/s的SiO2薄膜。 展开更多
关键词 PECVD SiO2薄膜 致密性 BOE腐蚀速率
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离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整 认领 引用 被引量：9
15
作者 刘华松 王利栓 +1 位作者 姜玉刚 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2238-2243,共6页
基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获... 基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03%、71.98%和69.53%;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62%、48.49%和37.88%。得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量。 展开更多
关键词 SiO2薄膜 正交实验 折射率 应力 离子束溅射
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SiO_2溶胶及其静电自组装薄膜的制备 认领 引用 被引量：6
16
作者 许丕池 姜德生 +2 位作者 余海湖 李小甫 李鸿辉 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS 北大核心 2004年第2期165-170,共6页
采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl... 采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl催化制备的SiO2 透明溶胶不适合于用ESAM法制备薄膜 ,用HCl与NH3 ·H2 O分步催化以及用NH3 ·H2 O单独催化制备的SiO2 胶体适合于用ESAM法制备光学薄膜 .薄膜的透射电镜微观察结果表明 ,以HCl与NH3 ·H2 O分步催化的SiO2 胶体制备的PDDA/SiO2 薄膜为连续结构 ,NH3 ·H2 O单独催化的为颗粒堆积 .研究了薄膜透光率与薄膜层数的关系 ,考察了薄膜的机械强度 .结果显示 ,以NH3 ·H2 O单独催化的SiO2 胶体制备的光学薄膜的增透效果较好 。 展开更多
关键词 SiO2 溶胶 静电自组装 复合薄膜
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TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备及其自清洁性能 认领 引用 被引量：5
17
作者 董如林 刘淑赟 +2 位作者 陈智栋 金长春 王彩霞 《化工进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期645-651,共7页
利用热陈化法得到的纳米TiO2粒子及SiO2聚合物胶粒通过浸渍-提拉技术制备了具有自清洁功能的TiO2/SiO2复合薄膜。考察了SiO2的复合比例对薄膜的表面形貌、透光率、光致亲水及自清洁性能的影响。随着SiO2复合体积分数的增大,薄膜的表面... 利用热陈化法得到的纳米TiO2粒子及SiO2聚合物胶粒通过浸渍-提拉技术制备了具有自清洁功能的TiO2/SiO2复合薄膜。考察了SiO2的复合比例对薄膜的表面形貌、透光率、光致亲水及自清洁性能的影响。随着SiO2复合体积分数的增大,薄膜的表面粗糙度、可见光透过率、光致亲水及自清洁性能显示了相似的变化规律。即在V(SiO2)=25%左右时,薄膜的各项特性或性能达到最大值或最小值。该薄膜在室外放置28天后,仍能显示超亲水性能。 展开更多
关键词 TiO2 SiO2复合薄膜 自清洁 粗糙度 透光率
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TiO_2-ZrO_2复合薄膜的制备和摩擦学性能 认领 引用 被引量：13
18
作者 陈云霞 周金芳 刘维民 《材料研究学报》 EI CAS 北大核心 2002年第3期279-284,共6页
以ZrOCl2@8H2O和TiCl4为原料,用溶胶-凝胶法制备了高取向的TiO2-ZrO2复合薄膜,研究了复合薄膜的组成结构、表面形貌和摩擦学性能结果表明,该复合薄膜均匀致密、具有四方ZrO2结构;复合薄膜具有良好的减摩抗磨性能.在0.5 N低负荷下,复合... 以ZrOCl2@8H2O和TiCl4为原料,用溶胶-凝胶法制备了高取向的TiO2-ZrO2复合薄膜,研究了复合薄膜的组成结构、表面形貌和摩擦学性能结果表明,该复合薄膜均匀致密、具有四方ZrO2结构;复合薄膜具有良好的减摩抗磨性能.在0.5 N低负荷下,复合薄膜与AISI 52100钢和Si3N4对磨时的摩擦系数为0.14～0.20,耐磨寿命大于5000次.TiO2-ZrO2复合薄膜可用作特殊工况条件下的减摩抗磨保护性涂层. 展开更多
关键词 制备 TiO2-ZrO2复合薄膜 溶胶-凝胶法 摩擦学 性能 陶瓷薄膜 二氧化钛 二氧化锆
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五层纳米SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能 认领 引用 被引量：7
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作者 杨瑞宵 陈昊 +2 位作者 王相文 赵伟 范勇 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期1050-1058,共9页
采用浸胶法制备了一系列SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺(SiO_2-Al_2O_3/PI)五层耐电晕薄膜AmAnPAnAm,其中中间层(P)为纯PI薄膜,外层(Am)、次外层(An)分别为SiO_2-Al_2O_3掺杂不同质量分数的纳米SiO_2-Al_2O_3/PI薄膜。采用TEM、FTIR、宽频介电... 采用浸胶法制备了一系列SiO_2-Al_2O_3/聚酰亚胺(SiO_2-Al_2O_3/PI)五层耐电晕薄膜AmAnPAnAm,其中中间层(P)为纯PI薄膜,外层(Am)、次外层(An)分别为SiO_2-Al_2O_3掺杂不同质量分数的纳米SiO_2-Al_2O_3/PI薄膜。采用TEM、FTIR、宽频介电谱仪、电导电流测试仪、耐电晕测试仪、介电强度测试仪和拉伸实验机对五层纳米复合PI耐电晕薄膜的微观结构、介电性能和力学性能进行了表征和测试。结果表明,SiO_2-Al_2O_3/PI复合薄膜掺杂层形成了分布均匀的有机/无机复合结构;SiO_2-Al_2O_3纳米粒子的保护作用是影响复合材料耐电晕性能的主要因素,复合薄膜A32A16PA16A32的耐电晕寿命最大,为23.4h;外层掺杂量对五层SiO_2-Al_2O_3/PI复合材料的介电强度影响较大,复合薄膜A20A28PA28A20的介电强度最大,为302.3kV/mm;通过对五层复合结构的设计,可以在兼顾材料力学性能的同时,提高其耐电晕寿命和介电强度。 展开更多
关键词 复合薄膜 聚酰亚胺(PI) SiO2-Al2O3纳米粒子 多层结构 介电性能 耐电晕
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溶胶-凝胶法制备SiO_2-TiO_2纳米复合薄膜紫外光处理的研究 认领 引用 被引量：10
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作者 马建华 吴广明 +1 位作者 沈军 王珏 《无机材料学报》 SCIE EI CAS 北大核心 2001年第6期1174-1180,共7页
采用溶胶－凝胶技术，结合二步水解法分别在单晶硅片、石英玻璃和Kg玻璃上制备SiO2、TiO2纳米复合薄膜，采用高压汞灯对其进行紫外光处理，分别用AFM、椭偏仪、FTIR、UV－Vis分光光度计以及XRD对凝胶膜紫外光处理前后的光学性能和结构... 采用溶胶－凝胶技术，结合二步水解法分别在单晶硅片、石英玻璃和Kg玻璃上制备SiO2、TiO2纳米复合薄膜，采用高压汞灯对其进行紫外光处理，分别用AFM、椭偏仪、FTIR、UV－Vis分光光度计以及XRD对凝胶膜紫外光处理前后的光学性能和结构进行研究，并与传统的热处理进行比较与分析．研究表明，紫外光处理是实现凝胶膜低温致密化的有效方法之一，其致密化的机理不同于传统的热处理，主要是通过紫外高能光子诱导复合薄膜网络结构的原子中的电子激发，导致原子化学键的断裂，进而产生结构重组而致密化． 展开更多
关键词 SiO2 TiO2 纳米复合薄膜 溶胶-凝胶法 紫外光处理 致密化 二氧化硅 二氧化钛
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