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改性SiO2源对合成高纯莫来石材料结构及性能的影响 认领 引用 被引量：3
1
作者 李可可 朱先忠 +4 位作者 麦海香 周超杰 徐恩霞 刘新红 赵飞 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2021年第10期3265-3272,共8页
在天然石英中引入质量分数为8%的γ-Al2O3,经1550℃加热处理实现了对SiO2源的掺杂改性。以不同SiO2源和γ-Al2O3为原料,对比研究了改性SiO2源对合成高纯莫来石材料结构和性能的影响。结果表明:SiO2中掺入少量γ-Al2O3... 在天然石英中引入质量分数为8%的γ-Al2O3,经1550℃加热处理实现了对SiO2源的掺杂改性。以不同SiO2源和γ-Al2O3为原料,对比研究了改性SiO2源对合成高纯莫来石材料结构和性能的影响。结果表明:SiO2中掺入少量γ-Al2O3后,其熔融温度降低;改性SiO2源在较窄的温度范围(1570~1580℃)内转化为富SiO2液相。大量富SiO2液相的形成促进了莫来石化反应,加速了颗粒重排,提高了材料的致密度,从而改善了高纯莫来石材料的反应烧结性能。在煅烧过程中,富SiO2液相逐渐被反应消耗转化为高温相的莫来石;同时,改性SiO2源熔融提供的液相环境,促进了莫来石晶体的各向异性生长。经1700℃保温3 h煅烧后,莫来石晶体发育呈柱状并形成交叉的网络结构,增强了晶体间的结合程度。采用改性SiO2源合成的高纯莫来石材料,表现出更好的力学性能。 展开更多
关键词 改性SiO2源 γ-Al2O3 高纯莫来石 富SiO2液相 烧结性能 耐压强度
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SiO_2薄膜的液相沉积及特性 认领 引用 被引量：2
2
作者 张世春 汪金祥 《应用光学》 CAS 2000年第5期30-36,共7页
将基片浸入到低温 Si O2 过饱和的六氟硅酸 (H2 Si F6)溶液中 ,在其表面上沉积 Si O2 薄膜。这种新的生长工艺称之为液相沉积 (L PD)。本文着重介绍 LPD工艺及 L PD Si O2 薄膜的特性。
关键词 液相沉积 薄膜 二氧化硅
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