期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
摘要
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选0条
引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
喷雾热解法制备SnO2:Sb+F透明导电薄膜 认领 引用
1
作者 赵高扬 魏征 +1 位作者 郅晓 张卫华 《中国材料科技与设备》 2006年第5期83-85,共3页
采用溶胶-凝胶与喷雾热解相结合的方法，在大面积浮法玻璃基板上制备出了SnO2：Sb＋F透明导电薄膜，研究了F／Sn比例、基板温度与SnO2薄膜的结构、形貌、光电性能的关系。实验结果表明：在溶胶的Sn：Sb：F比例为1：0．04：0.5和基板温度... 采用溶胶-凝胶与喷雾热解相结合的方法，在大面积浮法玻璃基板上制备出了SnO2：Sb＋F透明导电薄膜，研究了F／Sn比例、基板温度与SnO2薄膜的结构、形貌、光电性能的关系。实验结果表明：在溶胶的Sn：Sb：F比例为1：0．04：0.5和基板温度550℃的条件下，制备的SnO2：Sb＋F薄膜具有最佳的导电性能及较高的透光率，薄膜方阻达25Ω／□，电阻率为7．5×10^-4Ω·cm，平均可见光透过率为77．4％，辐射率e=0．208，表现出了较好的低辐射性。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 SnO2:Sb+F 喷雾热解 光电性能 大面积
暂未订购 下载PDF
采用USP-CVD沉积SnO_2透明导电膜——F、Sb掺杂及特性研究 认领 引用 被引量：2
2
作者 丁尔峰 崔容强 +3 位作者 周之斌 赵亮 于化丛 赵占霞 《电源技术》 CAS 北大核心 2004年第12期779-783,共5页
以F、Sb掺杂,采用超声雾化喷涂化学气相沉积工艺制备出二氧化锡透明导电膜。对SnO2∶F薄膜的沉积工艺进行了研究,探索出最佳的工艺条件,沉积出方块电阻低达6 赘/□左右的高透过率透明导电薄膜,其可见光平均透过率可以达到85%。分析了HF... 以F、Sb掺杂,采用超声雾化喷涂化学气相沉积工艺制备出二氧化锡透明导电膜。对SnO2∶F薄膜的沉积工艺进行了研究,探索出最佳的工艺条件,沉积出方块电阻低达6 赘/□左右的高透过率透明导电薄膜,其可见光平均透过率可以达到85%。分析了HF和NH4F掺杂的不同点。对在两种最佳工艺条件下沉积的膜的结构、电学性质进行了研究。对SnO2∶Sb薄膜的电学性质进行了研究,用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构。并对薄膜的透过率、折射率及光学带隙等光学性质进行了分析。 展开更多
关键词 超声雾化喷涂化学气相沉积(USP-CVD) SnO2:F SnO2:Sb NH4F HF
暂未订购 下载PDF
已选0条
引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
在线咨询 使用帮助 返回顶部 意见反馈